中試型納米*研磨分散機,納米*分散機,*研磨分散機,是至少兩種互不相溶或者難以相溶且不發(fā)生化學反應的物質(zhì)的混合過程。工業(yè)分散的目標是在連續(xù)相中實現(xiàn)“令人滿意的”精細分布。
當固體顆粒分散到一種液體中時，形成一種懸浮液。當一種液體分散到另一種液體中時，形成一種乳濁液。在一種乳濁液的兩個液相間的界面處，表面張力開始發(fā)生作用。新表面的產(chǎn)生需要能量。在沒有外部影響的情況下，每個液相體系均企圖以較少的能量達到乳濁液狀態(tài)。因此，總是會有產(chǎn)生較小界面的傾向，這阻礙任何乳濁液的形成。
納米*納米TiO2具有十分寶貴的光學性質(zhì)，在汽車工業(yè)及諸多領域都顯示出美好的發(fā)展前景。納米*還具有很高的化學穩(wěn)定性、熱穩(wěn)定性、無毒性、超親水性、非遷移性，且*可以與食品接觸，所以被廣泛應用于抗紫外材料、紡織、光催化觸媒、自潔玻璃、防曬霜、涂料、油墨、食品包裝材料、造紙工業(yè)、航天工業(yè)中。
*是廣泛使用的白色素，如油漆、防曬霜和藥片包衣。通常市場上都提供不同級別的粉末產(chǎn)品，但是實際使用時還會對細度提出新的要求。同時，這類粉體碰到液體時極易團聚。IKN 系列混合分散設備為快速分散而設計，達到窄粒徑分布，并防止結(jié)塊。
IKN工業(yè)設備用于*分散和研磨的優(yōu)點
縮短工藝時間。IKN高剪切乳化分散設備可以迅速地混合分散*粉末，并消除結(jié)塊和團聚。IKN也提供PLD和PLC粉體/液體混合機，將粉體直接加入液體，無需循環(huán)處理，一次性通過便可成型。
提高品質(zhì)。IKN高剪切混合機可以打碎結(jié)塊粉體，并與液體充分混合。這樣可以改善產(chǎn)品光澤和透明度，這兩個特征由分散好壞直接決定。
減少資金投入。IKN磨機可以***大程度縮小粒徑，達到窄粒徑分布。IKN分散研磨設備的流量比同類研磨設備高出很多，但也可達到相類似的效果。模塊化設計的IKN 2000系列產(chǎn)品，可以幫助客戶節(jié)約資金投資。
中試型納米*研磨分散機,納米*分散機,*研磨分散機
納米*研磨分散機的細化作用一般來說要強于均質(zhì)機，但它對物料的適應能力較強（如高粘度、大顆粒），所以在很多場合下，它用于均質(zhì)機的前道或者用于高粘度的場合。
研磨式分散機是由膠體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。
*級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。
第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子（乳化頭）和批次式機器的工作頭設計的不同主要是因為在對輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列，還有一個很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例，依據(jù)以前的經(jīng)驗工作頭來滿足一個具體的應用。在大多數(shù)情況下，機器的構造是和具體應用相匹配的，因而它對制造出***終產(chǎn)品是很重要。當不確定一種工作頭的構造是否滿足預期的應用。
CMD2000系列的線速度很高，剪切間隙非常小，這樣當物料經(jīng)過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結(jié)果就是通常所說的濕磨。定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。
設備等級：化工級、衛(wèi)生I級、衛(wèi)生II級、無菌級
電機形式：普通馬達、變頻調(diào)速馬達、防爆馬達、變頻防爆馬達、
電源選擇： 380V/50HZ、220V/60HZ、440V/50HZ
電機選配件： PTC 熱保護、降噪型
研磨分散機材質(zhì)：SUS304 、SUS316L 、SUS316Ti,氧化鋯陶瓷
研磨分散機選配：儲液罐、排污閥、變頻器、電控箱、移動小車
研磨分散機表面處理：拋光、耐磨處理
進出口聯(lián)結(jié)形式：法蘭、螺口、夾箍
研磨分散機選配容器：本設備適合于各種不同大小的容器
,納米*分散機,*研磨分散機
