配置專業(yè)運動控制平臺，PLC+觸摸屏控制方式，采用精準運動模組，操作簡便；
可選配噴頭數量，滿足客戶多元化需求；
配置專業(yè)集塵系統(tǒng)，保證產品品質和設備的整潔、干凈。
型號（Model） | CRF-APO-500W |
電源（Power supply） | 220V/AC,50/60Hz |
功率（Power） | 2set*1000W/25KHz(Option) |
處理寬幅（Processing width） | 50mm-500mm（Option） |
有效處理高度（Processing height） | 5-15mm |
處理速度（Processing speed） | 0-5m/min |
傳動方式（Drive mode） | 防靜電絕緣滾輪 |
噴頭數量（Number） | 2（Option） |
工作氣體（Gas） | Compressed Air（0.4mpa） |
配置專業(yè)運動控制平臺，PLC+觸摸屏控制方式，采用精準運動模組，操作簡便；
可選配噴頭數量，滿足客戶多元化需求；
配置專業(yè)集塵系統(tǒng)，保證產品品質和設備的整潔、干凈；
主要應用于電子行業(yè)的手機殼印刷、涂覆、點膠等前處理，手機屏幕的表面處理；國防工業(yè)的航空航天電連接器表面清洗；通用行業(yè)的絲網印刷、轉移印刷前處理等。
冷等離子體裝置是在密封容器中設置兩個電極形成電場,用真空泵實現一定的真空度,隨著氣體愈來愈稀薄,分子間距及分子或離子的自由運動距離也愈來愈長,受電場作用,它們發(fā)生碰撞而形成等離子體,這時會發(fā)出輝光,故稱為輝光放電處理。輝光放電時的氣壓大小對材料處理效果有很大影響,另外與放電功率,氣體成分及流動速度、材料類型等因素有關。
不同的放電方式、工作物質狀態(tài)及上述影響等離子體產生的因素,相互組合可形成各種低溫等離子體處理設備。
