化 學(xué) 鍍 又 稱(chēng) 為 無(wú) 電 解 鍍 （ Electroless plating ） ， 也 可 以 稱(chēng) 為 自 催 化 電 鍍（Autocatalytic plating）?；瘜W(xué)鍍就是在不通電的情況下，利用氧化還原反應(yīng)在具有催化表面的鍍件上，獲得金屬合金的方法，是新近發(fā)展起來(lái)的一門(mén)新技術(shù)。
       化學(xué)鍍鎳層具有很好的均勻性、硬度、耐磨和耐蝕性等綜合物理化學(xué)性能，該項(xiàng)技術(shù)已經(jīng)得到廣泛應(yīng)用在航空航天，汽車(chē)工業(yè)，化學(xué)工業(yè)，軍事工業(yè)，石油天然氣，食品加工，采礦，電子計(jì)算機(jī)等各行各業(yè)中。
       由于化學(xué)鎳鍍層成分中含有磷（P）等 X 射線(xiàn)無(wú)法檢出的輕金屬元素，加上在不同應(yīng)用領(lǐng)域中，P 的含量高低不一等因素，以往采用的庫(kù)倫法，X 射線(xiàn)法等測(cè)量方法都存在準(zhǔn)確度，可重現(xiàn)性等方面的不足。
       庫(kù)倫法因磷沒(méi)有參與電化學(xué)反映，或者即使參與了反映，磷的反應(yīng)與鎳的反應(yīng)過(guò)程與結(jié)果相差很大，造成儀器沒(méi)有將磷在鍍層中的存在的事實(shí)給與真實(shí)反映，由此造成測(cè)量的誤差。傳統(tǒng)的 X 射線(xiàn)檢測(cè)時(shí)，由于鍍層成分中的 P 比例是在不停變化的，通過(guò)固定鎳與磷的比例的檢測(cè)方法已不能*反映樣品的真實(shí)情況，造成測(cè)量的誤差。

我公司生產(chǎn)的XTD化學(xué)鍍鎳測(cè)厚儀，在檢測(cè)的過(guò)程中，可以通過(guò)分析出鍍層中磷和鎳的含量的比例，反映出更真實(shí)的鍍鎳層的厚度，

化學(xué)鍍鎳測(cè)厚儀儀器的優(yōu)勢(shì)及配置

1. 微聚焦 X 射線(xiàn)管：高穩(wěn)定性 X 射線(xiàn)發(fā)生器
—鈹窗口，油絕緣，氣冷式，輻射安全電子管屏蔽
—50kV，1mA，高壓和管流設(shè)定為應(yīng)用程序提供更好的性能
—符合 DIN ISO 3497 和 ASTM B 568 射線(xiàn)標(biāo)準(zhǔn)，如有特殊要求，也可協(xié)商定制
2. 接收器：高效率正比計(jì)數(shù)管
—窗口面積≥150mm²
3. 光路轉(zhuǎn)換器
—φ0.5mm，φ0.2mm 多準(zhǔn)直器可選
4. 定制專(zhuān)享高敏感鏡頭
—1/2.7”彩冊(cè) CCD 高敏感可變焦鏡頭，全局快門(mén)，有效像素：1280*960，光學(xué)
18-46X，數(shù)字放大 20-200 倍
5. 恒壓恒流快門(mén)式光閘
—擁有高壓電源緊急自鎖功能，帶給您更安全的防護(hù)
6. 移動(dòng)平臺(tái)
—手動(dòng)高精密 XY 移動(dòng)滑臺(tái)，移動(dòng)范圍 100mm*150mm，精度 0.01mm，可承重 15KG
7. 全新一代高壓電源
—性能穩(wěn)定可靠，高達(dá) 50W 的功率實(shí)現(xiàn)更高的測(cè)試效率
8. 對(duì)流通風(fēng)式過(guò)濾風(fēng)冷
—先進(jìn)的散熱系統(tǒng)配備，儀器即便全天候開(kāi)啟，都可保持恒溫恒效
9. 隨附標(biāo)準(zhǔn)片
—免費(fèi)提供十二元素片、Ni/Fe 5μm、Au/Ni/Cu 0.1μm/2μm、其他規(guī)格（選配）
10. 其他配置
—電腦一套、噴墨打印機(jī)、附件箱、電鍍液測(cè)量杯（選配）

應(yīng)用行業(yè)

1. 線(xiàn)路板、引線(xiàn)框架及電子元器件接插件檢測(cè)

2. 鍍純金、K 金、鉑、銀等各種飾品的膜層成分和厚度分析

3. 手表、精密儀器制造行業(yè)

4. 釹鐵硼磁鐵上的 Ni/Cu/Ni/FeNdB

5. 汽車(chē)、五金、電子產(chǎn)品等緊固件的表面處理檢測(cè)

6. 衛(wèi)浴產(chǎn)品、裝飾把手上的 Cr/Ni/Cu/CuZn（ABS）

7. 電鍍液的金屬陽(yáng)離子檢測(cè)

8、化學(xué)鍍鎳層厚度測(cè)量