冷卻循環(huán)機
技術參數：
型號 溫度范圍（℃） 溫度波動度（℃） 工作槽容積（mm3） 工作槽開口（mm2） 容積（L） 循環(huán)泵流量（L/min）
SLDHX-020 -0～100 ±0.05 300×250×270 235*160 20 16
SLDHX-015 0~100 ±0.05 300×250×200 235*160 15 15
產品介紹：
低溫恒溫循環(huán)器系列產品針對科研、生物、物理、醫(yī)藥、化工等部門對恒溫精度要求較高而研制的低溫實驗儀器，亦可作普通溫度計及其它溫度測量儀表制造中的定標用途?？蔀橛脩艄ぷ鲿r提供一個熱冷受控，溫度均勻恒定的場源，對試驗樣品或生產的產品進行恒定溫度試驗或測試，也可作為直接制冷和制冷的冷源。
風冷式高效全封閉制冷壓縮機,降溫速度快。
微機智能控制,溫度精確溫度。
數顯分辨率0.01℃，具有溫度測量值偏差修正功能。
溫度超溫保護,自動切斷電源并報警。
制冷系統(tǒng)過熱過流自動保護
低溫恒溫循環(huán)、器的應用領域及范圍：
生化領域：旋轉蒸發(fā)儀、阿貝折光儀、旋光儀、原子吸收、ICP-MS 、ICP、核磁共振、CCD、生物發(fā)酵罐、化學反應器（合成器）等。
材料領域：電鏡、X射線衍射、X熒光、真空濺射電鍍、真空鍍膜機、ICP刻蝕、各種半導體設備、疲勞試驗機、化學沉積系統(tǒng)、原子沉積系統(tǒng)等。
醫(yī)療領域：超導磁共振、直線加速器、CT、低磁場核磁共振、X光機、機、科研冷帽、降溫毯等等。
物化領域：激光器、磁場、各種分子泵、擴散泵、離子泵以及包括材料領域。使用的各種需水冷設備。
對半導體制造裝置發(fā)熱部的冷卻：單晶片洗凈轉載、印刷機、自動夾座安裝裝置、噴涂裝置、離子鍍裝置、蝕刻裝置、單晶片處理裝置、切片機、包裝機、顯影劑的溫度管理、露光裝置、生磁部分的加熱裝置等。對激光裝置發(fā)熱部分的冷卻：激光加工、熔接機的發(fā)熱部分、激光標志裝置、發(fā)生裝置、二氧化碳激光加工機等。 其他產業(yè)用機器發(fā)熱部分的冷卻：等離子熔接、自動包裝機、模具冷卻、洗凈機械、鍍金槽、精密研磨機、射出成型機、樹脂成型機的成型部分等。 分析檢測機器的發(fā)熱部分的冷卻： 電子顯微鏡的光源、ICP發(fā)光分光分析裝置的光源部分、分光光度計的發(fā)熱部分、X線解析裝置的熱源、自動脈沖調幅器的發(fā)熱部分原子吸光光度計的光源等。水箱可用優(yōu)質的純凈水在機內外循環(huán)冷卻，可保證對水質要求較高的精密儀器的正常運行，延長精密儀器的使用壽命。
