是一家立足華東，以拓展全國(guó)市場(chǎng)為主的進(jìn)口儀器貿(mào)易和技術(shù)咨詢服務(wù)公司，下設(shè)三個(gè)事業(yè)部和一個(gè)中心，即分析儀器事業(yè)部、標(biāo)耗備件事業(yè)部、大客戶項(xiàng)目部、以及中禹聯(lián)重檢測(cè)技術(shù)中心。
PHI X-tool是一款操作簡(jiǎn)單，同時(shí)具備高效高能的XPS。其秉承PHI-XPS的掃描聚焦X-ray系統(tǒng)，可通過單色化石英晶體叫X-ray直接聚焦至20μm。和傳統(tǒng)的XPS相比，不采用光闌進(jìn)行選區(qū)，極大的提高了XPS在200μm以下空間尺度的靈敏度。同時(shí)，不需要增加磁透鏡，即可得到**的靈敏度及**的信噪比，即使磁性樣品，也可輕松應(yīng)對(duì)。
性能特點(diǎn)
**的操作性
PHI X-tool軟件支持直觀的觸摸屏操作，所有XPS測(cè)定過程都可在觸摸屏上完成。用戶可以自由選擇手動(dòng)操作模式和自動(dòng)操作模式（自動(dòng)定性、定量、分析及完成報(bào)告），操作者無論是否具有豐富的XPS操作經(jīng)驗(yàn)，均能輕松應(yīng)對(duì)。
自動(dòng)參數(shù)設(shè)定、自動(dòng)完成報(bào)告
PHI X-tool具備自動(dòng)對(duì)焦功能（Auto-Z），使分析位置處于X射線的焦平面上，得到**的分析條件。其可實(shí)現(xiàn)中和參數(shù)的自動(dòng)匹配，無論樣品的導(dǎo)電性如何，均可輕松應(yīng)對(duì)。
自動(dòng)定性：實(shí)現(xiàn)譜峰自動(dòng)識(shí)別
自動(dòng)定量：自動(dòng)選定譜峰定量范圍
自動(dòng)曲線擬合：可自動(dòng)實(shí)現(xiàn)預(yù)定條件的曲線擬合
自動(dòng)生成實(shí)驗(yàn)報(bào)告
多方式樣品觀察
在XPS分析中，樣品觀察，特別是微區(qū)定位至關(guān)重要。PHI X-tool可通過以下三種方式進(jìn)行樣品觀察：a. 進(jìn)樣室高空間分辨率圖像；b. 實(shí)時(shí)CCD成像；c. 二次電子像（SXI）。利用這幾種方法觀察樣品，不論樣品大小，表面形貌如何均可輕松確定測(cè)試位置。
詳細(xì)的條件設(shè)定和直觀的操作
結(jié)合材料和目的，可詳細(xì)設(shè)定分析的條件。通過內(nèi)置元素周期表，可設(shè)定各光電子峰和俄歇峰。通過更改通過能、步長(zhǎng)、積分時(shí)間設(shè)定窄譜掃描參數(shù)。對(duì)每個(gè)樣品可設(shè)置習(xí)慣的文件名和樣品名稱。
快速化學(xué)成像
采用掃描X射線和高靈敏度檢測(cè)器及非掃描模式，可實(shí)現(xiàn)快速成像分析。每個(gè)點(diǎn)都可以直接調(diào)取全部的譜數(shù)據(jù)?；瘜W(xué)態(tài)成像的空間分辨率、靈敏度、能量分辨率與儀器主指標(biāo)一致。
采用PHI的***硬件設(shè)計(jì)
微聚焦掃描X-ray源；
雙束中和系統(tǒng)，低能離子束及低能電子束自動(dòng)配合；
浮動(dòng)離子*，離子加速電壓條件范圍可達(dá)0~5kV
應(yīng)用領(lǐng)域
Micro-Electronics 微電子, 電子封裝
Polymer 高份子材料
Tribology 摩擦學(xué)
Magnetic 磁性材料, 硬盤, 藍(lán)光光盤
Display Industries 顯示工業(yè)
Graphene 石墨稀
Catalysis 催化劑
Energy related 能源產(chǎn)業(yè)
Glass 玻璃
Metal 金屬
Ceramic 陶瓷
Semi-conductors 半導(dǎo)體
Bio-Medical 生醫(yī)科學(xué)
