半導體超純水設備是應用于半導體生產(chǎn)零件清洗的超純水設備，需要符合特定的用水水質(zhì)標準,半導體超純水設備出水水質(zhì)要符合美國ASTM純水水質(zhì)標準、我國電子工業(yè)電子級水質(zhì)技術(shù)標準(18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm)我國電子工業(yè)超純水水質(zhì)試行標準、半導體工業(yè)用純水指標、集成電路水質(zhì)標準。

半導體工業(yè)用超純水設備去離子設備純水設備

半導體(semiconductor)，指常溫下導電性能介于導體與絕緣體之間的材料。半導體材料很多，按化學成分可分為元素半導體和化合物半導體兩大類。鍺和硅是較常用的元素半導體;化合物半導體包括Ⅲ-Ⅴ族化合物：砷化鎵、磷化鎵等;Ⅱ-Ⅵ族化合物：硫化鎘、硫化鋅等;氧化物：錳、鉻、鐵、銅的氧化物，以及由Ⅲ-Ⅴ族化合物和Ⅱ-Ⅵ族化合物組成的固溶體：鎵鋁砷、鎵砷磷等。除上述晶態(tài)半導體外，還有非晶態(tài)的玻璃半導體、有機半導體等。

電去離子（Electrodeionization）簡稱EDI，是一種將離子交換技術(shù)，離子交換膜技術(shù)和離子電遷移技術(shù)相結(jié)合的純水制造技術(shù)。屬高科技綠色環(huán)保技術(shù)。EDI凈水設備具有連續(xù)出水、無需酸堿再生和無人值守等優(yōu)點，已在制備純水的系統(tǒng)中逐步代替混床作為精處理設備使用。這種*技術(shù)的環(huán)保特性好，操作使用簡便，愈來愈多地被人們所認可，也愈來愈多廣泛地在醫(yī)藥、電子、電力、化工等行業(yè)得到推廣。

EDI超純水設備的主要特點：

1.產(chǎn)水水質(zhì)高而具有較佳的穩(wěn)定度高

2.連續(xù)不間斷制水，不因再生而停機。

3.模塊化生產(chǎn)，并可實現(xiàn)全自動控制。

4.不須酸堿再生，無污水排放。

5.無酸堿再生設備和化學藥品儲運。

6.設備結(jié)構(gòu)緊湊，占地面積小。

7.運行費用及維修成本低。

8.運行操作簡單，勞動強度低

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