儀器簡介：
XAD是一款上照式全元素光譜分析儀，可測量納米級(jí)厚度、微小樣品和凹槽異形件的膜厚，也可滿足微區(qū)RoHS檢測及多元素成分分析，*的算法及解譜技術(shù)解決了諸多業(yè)界難題。
被廣泛用于各類產(chǎn)品的質(zhì)量管控、來料檢驗(yàn)和對(duì)生產(chǎn)工藝控制的測量使用。
產(chǎn)品優(yōu)勢(shì)：
微小樣品檢測：最小測量面積0.008mm2
變焦裝置算法：可改變測量距離測量凹凸異形樣品，變焦距離可達(dá)0-90mm
自主研發(fā)的EFP算法：AI(3)-U(92)元素的成分分析，Li(3)-U(92)元素的涂鍍層檢測，多層多元素，甚至有同種元素在不同層也可精準(zhǔn)測量
*的解譜技術(shù)：減少能量相近元素的干擾，降低檢出限
高性能探測器：SDD硅漂移窗口面積20/50mm2探測器
X射線裝置：微焦加強(qiáng)型射線管搭配聚焦裝置
上照式設(shè)計(jì)：實(shí)現(xiàn)對(duì)超大樣品或者密集點(diǎn)位進(jìn)行快、準(zhǔn)、穩(wěn)高效率測量
可編程自動(dòng)位移：選配自動(dòng)平臺(tái)，X210*Y230*Z145mm行程內(nèi)無人值守自動(dòng)測量
多準(zhǔn)直器自動(dòng)切換
XAD是一款上照式全元素光譜分析儀，可測量納米級(jí)厚度、微小樣品和凹槽異形件的膜厚，也可滿足微區(qū)RoHS檢測及多元素成分分析，*的算法及解譜技術(shù)解決了諸多業(yè)界難題。
被廣泛用于各類產(chǎn)品的質(zhì)量管控、來料檢驗(yàn)和對(duì)生產(chǎn)工藝控制的測量使用。
產(chǎn)品優(yōu)勢(shì)：
微小樣品檢測：最小測量面積0.008mm2
變焦裝置算法：可改變測量距離測量凹凸異形樣品，變焦距離可達(dá)0-90mm
自主研發(fā)的EFP算法：AI(3)-U(92)元素的成分分析，Li(3)-U(92)元素的涂鍍層檢測，多層多元素，甚至有同種元素在不同層也可精準(zhǔn)測量
*的解譜技術(shù)：減少能量相近元素的干擾，降低檢出限
高性能探測器：SDD硅漂移窗口面積20/50mm2探測器
X射線裝置：微焦加強(qiáng)型射線管搭配聚焦裝置
上照式設(shè)計(jì)：實(shí)現(xiàn)對(duì)超大樣品或者密集點(diǎn)位進(jìn)行快、準(zhǔn)、穩(wěn)高效率測量
可編程自動(dòng)位移：選配自動(dòng)平臺(tái)，X210*Y230*Z145mm行程內(nèi)無人值守自動(dòng)測量
多準(zhǔn)直器自動(dòng)切換
