壓力消解罐（水熱合成釜）

DAB-2 | DAB-3

Chemtron消解罐壓力高達200bar，為難以消解的樣品提供理想的解決方案，可配套的加熱單元，加樣簡單便捷，實驗重復(fù)性強。

水熱合成實驗

水熱合成法是指溫度為100～1000 ℃、壓力為1MPa～1GPa 條件下利用水溶液中物質(zhì)化學(xué)反應(yīng)所進行合成的方法。在亞臨界和超臨界水熱條件下，由于反應(yīng)處于分子水平，反應(yīng)活性提高，因而水熱反應(yīng)可以替代某些高溫固相反應(yīng)。又由于水熱反應(yīng)的均相成核及非均相成核機理與固相反應(yīng)的擴散機制不同，因而可以創(chuàng)造出其它方法無法制備的新化合物和新材料。
水熱合成可分為：水熱氧化，水熱沉淀，水熱合成，水熱還原，水熱分解，水熱結(jié)晶等

安全
壓力消解罐采用高品質(zhì)不銹鋼材質(zhì)和高密度PTFE內(nèi)襯，確保實驗操作的可靠性和安全性。
>所有容器均經(jīng)過TUV測試認證
>操作壓力可達200bar

>溫度可達250℃，實驗周期可達數(shù)天
>爆破片保證操作人員的安全
>特殊密封技術(shù)保證易揮發(fā)物質(zhì)不會流失和擴散
>當(dāng)消解罐被打開時，控制壓力將會釋放

內(nèi)襯技術(shù)
根據(jù)容積不同，TFM-PTFE高密度內(nèi)襯從50ml到250ml范圍可選，安全耐腐蝕，使用壽命長，操作簡單便捷
可靠的反應(yīng)控制
高精度溫度控制器確保所有參數(shù)統(tǒng)一監(jiān)控，該控制器可以進行升溫程序編程。Chemtron消解罐可與實驗室日常工作結(jié)合起來，進行隔夜實驗測試，避免樣品轉(zhuǎn)移帶來的麻煩

加熱
Chemtron針對不同體積的消解罐，可提供不同數(shù)量孔位的加熱裝置，最多可支持12位消解罐同時進行溫度控制

應(yīng)用
制備超細顆粒，無機薄膜，微孔材料，超臨界合成等工藝研究難消解樣品的高溫高壓消解

技術(shù)參數(shù)