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考夫曼離子源RFICP140濺射沉積鋁錳合金薄膜

參考價
360000-1920000
具體成交價以合同協(xié)議為準
  • 型號
  • 品牌
  • 所在地上海市
  • 更新時間2025-04-02
  • 廠商性質代理商
  • 所在地區(qū)上海市
  • 實名認證已認證
  • 產品數量200
  • 人氣值5001
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產地進口 加工定制
華北某大學實驗室采用伯東 KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP140 輔助磁控濺射沉積的方法在釹鐵硼磁體表面制備了耐腐蝕性良好的鋁錳合金薄膜.
考夫曼離子源RFICP140濺射沉積鋁錳合金薄膜 產品詳情

因產品配置不同, 價格貨期需要電議, 圖片僅供參考, 一切以實際成交合同為準

華北某大學實驗室采用伯東 KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP140 輔助磁控濺射沉積的方法在釹鐵硼磁體表面制備了耐腐蝕性良好的鋁錳合金薄膜.

 

伯東 KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP140 技術參數:

型號

RFICP140

Discharge

RFICP 射頻

離子束流

>600 mA

離子動能

100-1200 V

柵極直徑

14 cm Φ

離子束

聚焦, 平行, 散射

流量

5-30 sccm

通氣

Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他

典型壓力

< 0.5m Torr

長度

24.6 cm

直徑

24.6 cm

中和器

LFN 2000

 

磁控濺射是物理氣相沉積技術中一種手段比較豐富的方法, 可以通過控制調節(jié)鍍膜參數, 得到更加致密, 均勻, 結合力出色的膜層, 而且磁控濺射屬于干法鍍膜, 不存在電鍍化學鍍中的鍍液腐蝕基體和廢液污染問題, 從環(huán)境保護的角度來看, 磁控濺射較電鍍化學鍍更加綠色環(huán)保.


在釹鐵硼(NdFeB)磁體表面利用磁控濺射沉積不同錳含量的鋁錳合金薄膜. 磁控濺射制備的鋁錳合金薄膜表面光滑致密. 薄膜結構受到錳含量的影響, 當薄膜錳含量從6.80at%上升到25.78at%時, 薄膜結構由晶態(tài)逐漸轉變?yōu)榉蔷B(tài), 達到 35.67%時, 薄膜中析出金屬間化合物Al8Mn5. 鋁錳合金薄膜的耐腐蝕性能受薄膜成分變化的影響很大, 當薄膜中錳含量達到25.78% 時, 此時薄膜呈非晶態(tài)結構, 薄膜的自腐蝕電流密度達到 1.198×10-7A/cm2, 比釹鐵硼基體降低了 2 個數量級,耐腐蝕性能好.

 

KRI 離子源的功能實現了更好的性能, 增強的可靠性和新穎的材料工藝. KRI 離子源已經獲得了理想的薄膜和表面特性, 而這些特性在不使用 KRI 離子源技術的情況下是無法實現的.

 

KRI 離子源是領域的領dao者, 已獲得許多專li. KRI 離子源已應用于許多已成為行業(yè)標準的過程中.

 

伯東是德國 Pfeiffer 真空泵, 檢漏儀, 質譜儀, 真空計, 美國 KRI 考夫曼離子源, 美國HVA 真空閥門, 美國 inTEST 高低溫沖擊測試機, 美國 Ambrell 感應加熱設備和日本 NS 離子蝕刻機等進口品牌的代理商.

 

若您需要進一步的了解詳細信息或討論, 請參考以下聯絡方式:

上海伯東: 羅先生         


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