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KRI 考夫曼射頻離子源輔助磁控濺射WS2 薄膜

參考價
360000-1920000
具體成交價以合同協(xié)議為準
  • 型號
  • 品牌其他品牌
  • 所在地上海市
  • 更新時間2025-04-02
  • 廠商性質(zhì)代理商
  • 所在地區(qū)上海市
  • 實名認證已認證
  • 產(chǎn)品數(shù)量200
  • 人氣值4971
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位于中國上海浦東外高橋保稅區(qū)的伯東企業(yè)(上海)有限公司創(chuàng)建于1995年12月,, 是日本伯東株式會社獨資設(shè)立的外商投資企業(yè),公司注冊資金為200萬美元,到目前為止公司從業(yè)員工有400多人。
伯東企業(yè)(上海)有限公司真空產(chǎn)品事業(yè)部()專業(yè)銷售及維修德國Pfeiffer單雙級旋片泵,干泵,羅茨泵,分子泵;應用于各種條件下的真空測量(真空計, 真空規(guī)管);檢漏儀,質(zhì)譜儀,真空系統(tǒng)等等, 維修技術(shù)力量雄厚,保證 100 % 擁有標準的德國Pfeiffer原廠測試設(shè)備及調(diào)整工具和德國Pfeiffer專業(yè)培訓工程師,多年來致力于真空系統(tǒng)的安裝、調(diào)試、維修、拆機、保養(yǎng)等,具有優(yōu)良的專業(yè)技能和服務(wù)意識,并獲得原廠*維修資質(zhì)證書。利用 Pfeiffer 進口檢測設(shè)備對維修后的產(chǎn)品做*性能測試。另外公司還代理美國Brooks  CTI Cryopump 冷凝泵/低溫泵, Polycold 冷凍機和美國KRI 離子源,HVA 高真空閥門。公司一直堅持品質(zhì)*、信譽*的原則,為廣大客戶提供了高品質(zhì)的產(chǎn)品以及良好的售后服務(wù)。到目前為止已先后通過了美國UL安全認證、ISO9001-2000質(zhì)量體系認證、ISO14001-1996環(huán)境體系認證。公司將在今后的發(fā)展中秉承以人為本,不斷開拓進取的精神,為滿足客戶的需求努力向?qū)I(yè)化、優(yōu)質(zhì)化、集團化發(fā)展。

為將國外的高科技產(chǎn)品與中國經(jīng)濟和社會的飛速發(fā)展緊密結(jié)合,為促進國內(nèi).貿(mào)易的快速發(fā)展,伯東企業(yè)(上海)有限公司,以高科技推動現(xiàn)代化,以高質(zhì)量服務(wù)全中國, 堅持不懈,奮斗不息。伯東公司是一家專業(yè)代理公司,代理上公司的 半導體設(shè)備.接插件.電子器件.精密儀器等,公司秉承 改革.創(chuàng)新.求真.發(fā)展的基本原則, 精心構(gòu)建誠信、互動、共贏的價值體系, 為所有的客戶提供優(yōu)質(zhì)的產(chǎn)品, 同時,提供全伯東集團網(wǎng)絡(luò)支持下的較早.Z快的信息與Z及時周到的服務(wù),伯東公司愿意與世界各地的客戶聯(lián)手合作,共建一個誠信.發(fā)展.共同進步的良好環(huán)境.

 

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河南某大學研究室采用伯東 KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP380 輔助磁控濺射 WS2 薄膜, 目的研究不同沉積壓力對磁控濺射 WS2 薄膜微觀結(jié)構(gòu)、力學性能和摩擦學性能的影響.
KRI 考夫曼射頻離子源輔助磁控濺射WS2 薄膜 產(chǎn)品詳情

因產(chǎn)品配置不同, 價格貨期需要電議, 圖片僅供參考, 一切以實際成交合同為準

WS2 作為一種固體潤滑材料, 有著類似“三明治”層狀的六方晶體結(jié)構(gòu), 由于通過微弱范德華力結(jié)合的S—W—S層間距較大, 在發(fā)生摩擦行為時易于滑動而達到優(yōu)異的潤滑效果. WS2對金屬表面吸附力強, 且摩擦系數(shù)較低, 在高溫高壓、高真空、高輻射等嚴苛環(huán)境也能保持潤滑, 不易失效, 在航空航天領(lǐng)域有著良好的發(fā)展前景.

 

河南某大學研究室采用伯東 KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP380  輔助磁控濺射 WS薄膜, 目的研究不同沉積壓力對磁控濺射 WS2 薄膜微觀結(jié)構(gòu)、力學性能和摩擦學性能的影響.

 

KRI 射頻離子源 RFICP380 技術(shù)參數(shù):

射頻離子源型號

RFICP380

Discharge 陽極

射頻 RFICP

離子束流

>1500 mA

離子動能

100-1200 V

柵極直徑

30 cm Φ

離子束

聚焦, 平行, 散射

流量

15-50 sccm

通氣

Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他

典型壓力

< 0.5m Torr

長度

39 cm

直徑

59 cm

中和器

LFN 2000

 

在磁控濺射沉積薄膜的實驗中, 工藝參數(shù)(如沉積壓力、沉積溫度、濺射功率等)對 WS2 薄膜的結(jié)構(gòu)和性能影響很大. 為制備摩擦磨損性能優(yōu)良的 WS2 薄膜, 需要系統(tǒng)研究磁控濺射沉積 WS2 薄膜的工藝方法.

磁控濺射 WS2 薄膜的原理是利用稀薄氣體在低壓真空環(huán)境中發(fā)生輝光放電, 如果薄膜沉積時工作氣壓過低(<0.1 Pa), 靶材不能正常起輝;沉積壓力過高(>10 Pa), 真空室內(nèi)等離子體密度高, 濺射粒子向基體運動中發(fā)生碰撞多, 平均自由程減小, 以致無法到達基體表面進行沉積.

因此, 合適的沉積壓力是磁控濺射沉積 WS2 薄膜的一個重要工藝參數(shù).

 

KRI 離子源的功能實現(xiàn)了更好的性能, 增強的可靠性和新穎的材料工藝. KRI 離子源已經(jīng)獲得了理想的薄膜和表面特性, 而這些特性在不使用 KRI 離子源技術(shù)的情況下是無法實現(xiàn)的.

 

若您需要進一步的了解詳細信息或討論,  請參考以下聯(lián)絡(luò)方式:

上海伯東: 羅先生             


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