超高光譜成像儀，波長范圍覆蓋400-2500nm
GRAND-EOS高光譜成像儀內部集成了S-EOS 1.7，S-EOS 2.5或V-EOS凝視型高光譜相機，自身就是一個小型測試平臺。
GRAND-EOS高光譜成像儀是由Photon ect公司研發(fā)的一個全局成像的超快高光譜成像儀，它將成像技術與光譜技術相結合，結合了高光譜顯微鏡系統(tǒng)和高光譜寬視場成像平臺，可以提供微觀模式和宏觀模式，波長范圍覆蓋VNIR（400-1000nm）和SWIR（900-1700nm）。
由于搭載了Photon ect的：布拉格光柵濾光技術，可以篩選光的波段，并且提供高通過量，高效率的非偏振波長的光，利用這個濾光技術，可以大視場成像，對用戶想要的任意波長范圍進行掃描，利用一個百萬像素的傳感器，可以獲得樣品表面數(shù)百萬個位置點上的光譜信息GRAND-EOS專為反射，透射和發(fā)光成像而設計，非常適合基礎研究和工業(yè)應用。
GRAND-EOS超高光譜成像儀產品規(guī)格參數(shù)：
| 型號 | V-EOS | S-EOS1.7 | S-EOS 2.5 |
| 光譜范圍 | 400 - 1000nm | 900 - 1620 nm | 900 - 2500 nm |
| 光譜分辨（FWHM） | < 2 nm | < 4 nm | < 5 nm |
| 照相機 | sCMOS | InGaAs相機 (ZephIR™1.7 or Alizé™1.7) | MCT 相機 |
| 波長精度 | FWHM/8 | ||
| 光譜通道 | 連續(xù)可調 | ||
| 入口狹縫尺寸 | 每個波長無狹縫/全視野測量 | ||
| 曝光控制 | 物理規(guī)范™ 軟件控制 | ||
| 標準視場（可定制） | 160毫米x 160毫米，20毫米x 20毫米，可根據(jù)要求提供其他視野 | ||
| 預處理 | 圖像穩(wěn)定，空間濾波，統(tǒng)計工具，光譜提取，數(shù)據(jù)歸一化，光譜校正 | ||
| 高光譜數(shù)據(jù)格式 | HDF5, FITS | ||
| 軟件 | PHySpec，Windows10-64位 | ||
| 尺寸 | 150 cm x 85 cm x 82 cm | ||
| 重量 | 80kg | ||
| 電源要求 | 120 VAC / 12 A / 60 Hz，230 VAC / 12 A / 50 Hz | ||
| 可選附件 | 光度校準，激光激發(fā)，白光照明，微成像模式：5倍，10倍。 | ||
GRAND-EOS超高光譜成像儀開啟了以下領域的全新可能
-光伏特性
-偽造品檢驗
-法醫(yī)研究
-食品和植物分類
GRAND-EOS超高光譜成像儀特點
-光譜通道連續(xù)可調
-從400 nm到1620 nm有高靈敏度
-非分散技術
-高性能CCD
-電動對焦
-控制和分析軟件
