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FR-Scanner-AIO-Mic-XY200 膜厚儀

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  • 型號(hào)
  • 品牌
  • 所在地上海
  • 更新時(shí)間2023-03-28
  • 廠商性質(zhì)其他
  • 所在地區(qū)上海
  • 實(shí)名認(rèn)證已認(rèn)證
  • 產(chǎn)品數(shù)量100
  • 人氣值975
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??岱美有限公司成立于1989年,是數(shù)據(jù)存儲(chǔ),半導(dǎo)體,光學(xué),光伏和航空航天行業(yè)制造商和創(chuàng)新研發(fā)機(jī)構(gòu)的*設(shè)備分銷商。??在21世紀(jì)初期,岱美已從我們?cè)谥袊?guó)香港的總部擴(kuò)展到亞洲,以滿足客戶的多樣化需求。在當(dāng)今化的市場(chǎng)中,我們的客戶包括連接?xùn)|南亞各國(guó)的綜合供應(yīng)鏈,我們的專業(yè)人員隨時(shí)準(zhǔn)備與他們會(huì)面。??我們的總部設(shè)在中國(guó)香港,在中國(guó)大陸地區(qū)(北京和上海,以及廣東東莞)擁有強(qiáng)大的業(yè)務(wù)。我們還在馬來西亞,新加坡,中國(guó)臺(tái)灣地區(qū),菲律賓和泰國(guó)等東南亞國(guó) 家和地區(qū)設(shè)有分支機(jī)構(gòu)。岱美擁有訓(xùn)練有素的工程師,能夠?yàn)楦鞯貐^(qū)用戶提供快捷、可靠的技術(shù)支持和維修服務(wù);為確保他們的專業(yè)知識(shí)得以更新及并適應(yīng)新的要求,岱美定期委派工程師前往海外接受專項(xiàng)技術(shù)訓(xùn)練,務(wù)求為顧客提供更高質(zhì)素的售后服務(wù)及技術(shù)支持。我們的分支機(jī)構(gòu)都已建立數(shù)十年,我們的許多客戶對(duì)我們與他們建立的長(zhǎng)達(dá)數(shù)十年的合作關(guān)系感到滿意。??我們的目標(biāo)是建立持久的關(guān)系,滿足東南亞企業(yè)快速增長(zhǎng)的需求。對(duì)于我們的客戶,我們不僅提供設(shè)備,還提供建議和技術(shù)指導(dǎo),以及時(shí)了解我們不斷發(fā)展的行業(yè)的發(fā)展。對(duì)于我們的供應(yīng)商,我們提供了深入的銷售網(wǎng)絡(luò)和數(shù)十年的東南亞復(fù)雜商業(yè)環(huán)境導(dǎo)航經(jīng)驗(yàn)。我們將本地客戶與來自歐洲,美國(guó),日本和韓國(guó)的*設(shè)備與技術(shù)連接起來。岱美合作客戶??岱美在中國(guó)大陸地區(qū)主要銷售或提供技術(shù)支持的產(chǎn)品:??晶圓鍵合機(jī)、納米壓印設(shè)備、紫外光刻機(jī)、涂膠顯影機(jī)、硅片清洗機(jī)、超薄晶圓處理設(shè)備、光學(xué)三維輪廓儀、硅穿孔TSV量測(cè)、非接觸式光學(xué)三坐標(biāo)測(cè)量?jī)x、薄膜厚度檢測(cè)儀、主動(dòng)及被動(dòng)式防震臺(tái)系統(tǒng)、應(yīng)力檢測(cè)儀、電容式位移傳感器等。??如有需要,請(qǐng)聯(lián)系我們,了解我們?nèi)绾伍_始與您之間的合作,實(shí)現(xiàn)您的企業(yè)或者組織機(jī)構(gòu)長(zhǎng)期發(fā)展的目標(biāo)。注:在大陸地區(qū)注冊(cè)的公司名稱為:岱美儀器技術(shù)服務(wù)(上海)有限公司,并有東莞分公司和北京辦事處。
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1、FR-Scanner-AIO-Mic-XY200介紹模塊化厚度測(cè)繪系統(tǒng)平臺(tái),集成了光學(xué)、電子和機(jī)械模塊,用于表征圖案化薄膜光學(xué)參數(shù)
FR-Scanner-AIO-Mic-XY200 膜厚儀 產(chǎn)品詳情

1、FR-Scanner-AIO-Mic-XY200介紹

模塊化厚度測(cè)繪系統(tǒng)平臺(tái),集成了光學(xué)、電子和機(jī)械模塊,用于表征圖案化薄膜光學(xué)參數(shù)。典型案例包括(但不限于)微圖案表面、粗糙表面等。晶圓放置在真空吸盤上,該真空吸盤支持尺寸/直徑達(dá) 200 毫米的各種晶圓,執(zhí)行測(cè)量光斑尺寸小至幾微米的強(qiáng)大光學(xué)模塊。電動(dòng)平臺(tái)提供XY方向200毫米的行程,在速度、精度和可重復(fù)性方面具有的性能。

FR-Scanner-AIO-Mic-XY200提供:o 實(shí)時(shí)光譜反射率測(cè)量 o 薄膜厚度、光學(xué)特性、不均勻性測(cè)量、厚度測(cè)繪o 使用集成的、USB 連接的高質(zhì)量彩色相機(jī)進(jìn)行成像o 測(cè)量參數(shù)的統(tǒng)計(jì)數(shù)據(jù)

2、特征

圖片2.png

o 單擊分析(無需初始猜測(cè))

o 動(dòng)態(tài)測(cè)量

o 光學(xué)參數(shù)(n & k、色座標(biāo))

o Click2Move 和圖案測(cè)量位置對(duì)齊功能

o 多個(gè)離線分析安裝

o 軟件更新

3、規(guī)格

Model

UV/VIS

UV/NIR -EX

UV/NIR-HR

D UV/NIR

VIS/NIR

D VIS/NIR

NIR

NIR-N2

Spectral Range (nm)

200 – 850

200 –1020

200-1100

200 – 1700

370 –1020

370 – 1700

900 – 1700

900 - 1050

Spectrometer Pixels

3648

3648

3648

3648 & 512

3648

3648 & 512

512

3648

Thickness range (SiO2) *1

5X- VIS/NIR

4nm – 60μm

4nm – 70μm

4nm – 100μm

4nm – 150μm

15nm – 90μm

15nm–150μm

100nm-150μm

4um – 1mm

10X-VIS/NIR

10X-UV/NIR*

4nm – 50μm

4nm – 60μm

4nm – 80μm

4nm – 130μm

15nm – 80μm

15nm–130μm

100nm–130μm

15X- UV/NIR *

4nm – 40μm

4nm – 50μm

4nm – 50μm

4nm – 120μm

100nm-100μm

20X- VIS/NIR

20X- UV/NIR *

4nm – 25μm

4nm – 30μm

4nm – 30μm

4nm – 50μm

15nm – 30μm

15nm – 50μm

100nm – 50μm

40X- UV/NIR *

4nm – 4μm

4nm – 4μm

4nm – 5μm

4nm – 6μm

50X- VIS/NIR

15nm – 5μm

15nm – 5μm

100nm – 5μm

Min. Thickness for n & k

50nm

50nm

50nm

50nm

100nm

100nm

500nm

Thickness Accuracy **2

0.1% or 1nm

0.2% or 2nm

3nm or 0.3%


Thickness Precision **3/4

0.02nm

0.02nm

<1nm

5nm

Thickness stability **5

0.05nm

0.05nm

<1nm

5nm

Light Source

Deuterium & Halogen

Halogen (internal), 3000h (MTBF)

Min. incremental motion

0.6μm

Stage repeatability

±2μm

Absolute accuracy

±3μm

Material Database

> 700 different materials

Wafer size

2in-3in-4in-6in-8in

Scanning Speed

100meas/min (8’’ wafer size)


Tool dimensions / Weight

700x700x200mm / 45Kg


測(cè)量區(qū)域光斑(收集反射信號(hào)的區(qū)域)與物鏡和孔徑大小有關(guān)

物鏡

Spot Size (光斑)

放大倍率

500微米孔徑

250微米孔徑

100微米孔徑

5x

100 μm

50 μm

20 μm

10x

50 μm

25 μm

10 μm

20x

25 μm

15 μm

5 μm

50x

10 μm

5 μm

2 μm

4、工作原理

Principle of Operation 測(cè)量原理White Light Reflectance Spectroscopy (WLRS) 白光反射光譜是測(cè)量從單層薄膜或多層薄膜堆疊結(jié)構(gòu)的一個(gè)波長(zhǎng)范圍內(nèi)的反射量,入射光垂直于樣品表面,由于界面干涉產(chǎn)生的反射光譜被用來計(jì)算確定(透明或部分透明或反射基板上)薄膜的厚度、光學(xué)常數(shù)(N&K)等。



圖片4.png


*1規(guī)格如有變更,恕不另行通知,*2與校正過的光譜橢偏儀和x射線衍射儀的測(cè)量結(jié)果匹配,*3超過15天平均值的標(biāo)準(zhǔn)偏差平均值,樣品:硅晶片上1微米SiO2,*4標(biāo)準(zhǔn)偏差100次厚度測(cè)量結(jié)果,樣品:硅晶片上1微米SiO2, *5 15天內(nèi)每日平均值的2*標(biāo)準(zhǔn)差。樣品:硅片上1微米SiO2。

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