Plasma清洗儀是利用等離子體來(lái)達(dá)到常規(guī)清洗方法無(wú)法達(dá)到的效果。等離子體是對(duì)氣體施加足夠能量使其離化形成,plasma清洗儀是通過(guò)等離子體中離子、處于高速運(yùn)動(dòng)狀態(tài)的電子、光子、活性基團(tuán)等“活性”成分來(lái)處理表面以實(shí)現(xiàn)清潔、改性等目的,具體工作原理是在真空腔體里,通過(guò)射頻電源在一定的壓力情況下啟輝產(chǎn)生高能量的無(wú)序的等離子體,通過(guò)等離子體轟擊被清洗產(chǎn)品表面,以達(dá)到清洗目的。
Plasma清洗儀具體使用步驟為,打開(kāi)電源,將樣品放入真空腔中,蓋上蓋子,打開(kāi)真空泵,至少等待一段時(shí)間以確保將真空腔抽為真空,并且蓋子無(wú)法抬起,設(shè)定清洗功率,選擇清洗時(shí)間,儀器開(kāi)始工作;清洗結(jié)束后,關(guān)閉真空泵,向真空腔中通大氣,取出樣品,關(guān)閉儀器,電源。