一、 簡介
J.A.Woollam公司于1987年由Woollam教授等創(chuàng)辦。公司是由內(nèi)布拉斯加州立大學的科研成果為基礎(chǔ)衍生而來的專業(yè)生產(chǎn)光譜型橢圓偏振測量儀的廠商，公司研發(fā)、生產(chǎn)多種不同規(guī)格型號的橢偏儀。
J.A.Woollam公司擁有超過100項的橢偏patent技術(shù)，確保公司的技術(shù)處于地位。已有2000多套橢偏儀已被安裝到世界各地，廣泛應用于各種領(lǐng)域的科研與生產(chǎn)當中。RC2是J.A.Woollam公司的的光譜橢偏儀產(chǎn)品。采用雙旋轉(zhuǎn)補償技術(shù)，可測量穆勒矩陣的全部16個單元。
二、 技術(shù)特點
設(shè)備特點：采用雙旋轉(zhuǎn)補償器，高精度快速測量。
采用消色散的補償器，性能更優(yōu)化。
*的光源，計算機可控輸出光強。
*的光束對準系統(tǒng)，數(shù)據(jù)測量更準確。
波長范圍： 193-1690nm（超過1000個波長點）
變角范圍： 45°-90°（水平樣品臺）
20°-90°（垂直樣品臺）
測量速度：典型數(shù)據(jù)全光譜測量不超過1秒。
自動樣品臺尺寸：8/12寸多種樣品臺可選
三、 應用
單層膜或多層膜疊加、單一膜層及液態(tài)膜層，測量薄膜厚度、反射率和透射率、折射率等光學常數(shù)。
半導體薄膜：光刻膠、工藝薄膜、介電材料
液晶顯示：OLED、氧化層厚度、ITO
光學鍍膜：硬涂層厚度、減反涂層
高分子薄膜：PI、PC
