一、設(shè)備用途
用于熔煉高熔點金屬/合金，采用熔態(tài)單輥旋淬法制備條帶非晶材料，以及真空噴/吸鑄法制備大塊非晶材料。適用于大專院校、科研院所及企業(yè)進行真空冶金新材料的科研與小批量生產(chǎn)。
二、設(shè)備組成
主要由真空獲得及測量系統(tǒng)、單輥旋淬條帶制備系統(tǒng)、噴鑄系統(tǒng)、電弧熔煉、吸鑄系統(tǒng)、工作氣路、電控系統(tǒng)及安裝機臺等組成。
三、主要技術(shù)參數(shù)：
1 . 電弧熔煉 技術(shù)數(shù)據(jù)：
| 熔融溫度范圍 | 室溫~ 3500℃ | 極限真空度（分子泵系統(tǒng)） | 5 x 10 -4 Pa |
| 壓升率 | ≤0.67Pa/H | 通入工作氣氛 | 氮氣、氬氣 |
| 工作壓力范圍 | 0.1 - 0.5bar | 熔煉工位 | 5個 |
| 熔煉電流 | 50-1250A | 單工位熔煉合金量 | 10-150克（以鋼計） |
電弧熔煉部分： 2.1 手動 電弧槍升降，手動自由擺動，采用波紋管密封； 2.2所有重要控制功能整合到控制盒內(nèi)； 2.3所有熔煉工位（吸鑄工位除外）具有電磁攪拌功能； 2.4機械手可原位翻轉(zhuǎn)或轉(zhuǎn)移小樣品； 2.5無接觸高壓、高頻電弧點火； 2.6雙層水冷真空室；
2. 真空甩帶 技術(shù)數(shù)據(jù)：
| 熔融溫度范圍 | 室溫~ 1600℃ | 極限真空度（分子泵系統(tǒng)） | 5 × 10 -4 Pa |
| 壓升率 | ≤0.67Pa/H | 通入工作氣氛 | 氮氣、氬氣 |
| 工作壓力范圍 | 1.0- 2.0bar | 典型石英坩堝樣品熔融量 | 5~50克（以鐵計） |
| 熔煉電源 | 15KVA；30-80KHz | 感應熔煉噴鑄系統(tǒng) | 5-50g |
| 感應熔煉系統(tǒng) | 50~500g（以鐵計） |
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2.1典型的薄片厚度20- 60µm，寬度可在1~ 7 0mm 2.2坩堝手動調(diào)節(jié)機構(gòu) 2.3銅制輥輪，大速度 300 0 轉(zhuǎn) / min ，伺服驅(qū)動， 100g以上容量需加水冷 2.4銅輥轉(zhuǎn)軸采用磁流體密封 2.5 感應熔煉電源功率 15kw~ 35kw 2.6設(shè)備配備注射及噴鑄用氬氣罐 2.7坩堝材料可選擇石英/氮化硼/石墨等 2. 8 手動傾轉(zhuǎn)澆鑄機構(gòu) 選配 2. 9 噴鑄裝置及模具 選配 2.1 0 紅外測溫儀 選配
