TURBOVAC MAG W 830/1300 C W 1500 CT
W 2000 C/CT W 2200 C W 2800/3200 (C/CT)
典型應用
- 半導體工業(yè)，諸如蝕刻、CVD、PVD和離子注入之類的所有主要半導體工藝
- 進樣室，轉移室
- 粒子加速器
- 科研
- 鍍膜系統(tǒng)
技術特點
- 主動定位五軸磁懸浮軸承系統(tǒng)
- 軸承系統(tǒng)的數(shù)字監(jiān)控
- 噪聲和振動低
- 任意方向安裝
- *的轉子設計，實現(xiàn)高抽速和高前級耐壓
- 智能電源控制系統(tǒng)
- CT版集成溫度管理系統(tǒng)（TMS）
- C版耐腐蝕
客戶得益
- 免維護
- 所有工藝氣體都有高氣載量
- 極限低，抽速高
- 前級耐壓高
- 同類中重量較輕，尺寸較小
- 耐粉塵
- 溫控達 90 °C (194 °F)，避免沉積物
（CT版）
- 高耐腐蝕性-CT版
- 氣體吹掃系統(tǒng)
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技術特點
- 主動定位五軸磁懸浮軸承系統(tǒng)
- 軸承系統(tǒng)的數(shù)字監(jiān)控
- 噪聲和振動低
- 任意方向安裝
- *的轉子設計，實現(xiàn)高抽速和高前級耐壓
- 智能電源控制系統(tǒng)
- CT版集成溫度管理系統(tǒng)（TMS）
- C版耐腐蝕
客戶得益
- 免維護
- 所有工藝氣體都有高氣載量
- 極限低，抽速高
- 前級耐壓高
- 同類中重量輕，尺寸小
- 耐粉塵
- 溫控達 90 °C (194 °F)，避免沉積物
（CT版）
- 高耐腐蝕性-CT版
- 氣體吹掃系統(tǒng)
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典型應用
- 半導體工業(yè)，諸如蝕刻、CVD、PVD和離子注入之類的所有主要半導體工藝
- 進樣室，轉移室
- 粒子加速器
- 科研
- 鍍膜系統(tǒng)
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技術參數(shù) TURBOVAC MAG W 1500 CT | ||||||
進氣口 | DN | 200 ISO-F | 250 ISO-F | 200 CF | ||
PNEUROP的抽速 | ||||||
氮氣 | I x s-1 | 1100 | 1220 | 1100 | ||
氬氣 | I x s-1 | 1050 | 1180 | 1050 | ||
氦氣 | I x s-1 | 1100 | 1200 | 1100 | ||
氫氣 | I x s-1 | 920 | 1020 | 920 | ||
額定轉速 | min-1 | 36 000 | 36 000 | 36 000 | ||
壓縮比 | ||||||
氮氣 | > 108 | > 108 | > 108 | |||
極限壓強，根據(jù) DIN 28 400 | ||||||
mbar (Torr) | < 10-8 (< 0 75 x 10-8) | < 10-8 (< 0 75 x 10-8) | < 10-10 (< 0 75 10-10) | |||
前級耐壓（對氮氣） | mbar (Torr) | 2 6 (1 95) | 2 6 (1 95) | 2 6 (1 95) | ||
推薦的前級泵 | ||||||
抽速達100m3/h的旋片泵或干泵 | TRIVAC D 65 BCS | TRIVAC D 65 BCS | TRIVAC D 65 BCS | |||
啟動時間 | ||||||
達95%名義轉度時 | min | < 6 | < 6 | < 6 | ||
出氣口外形尺寸 | DN | 40 ISO-KF | 40 ISO-KF | 40 ISO-KF | ||
吹掃和破空口 | VCR | 1/4" | 1/4" | 1/4" | ||
冷卻水接口 | ||||||
（管道外徑） | mm (in ) | 6 4 (0 25) | 6 4 (0 25) | 6 4 (0 25) | ||
重量（近似） | kg (lbs) | 32 (70 6) | 32 (70 6) | 32 (70 6) | ||
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