追求高效率的Φ300 mm研削拋光機(jī)
Φ300 mm
3 axes, 4 chuck tables
DBG
SDBG
Wafer Thinning
Stress Releaf
提高加工穩(wěn)定性，實(shí)現(xiàn)更高的生產(chǎn)效率
DGP8761是銷售業(yè)績(jī)突出的DGP8760的改良機(jī)型。通過背面研削到去除應(yīng)力的一體化，可以穩(wěn)定地實(shí)施厚度在25 μm以下的薄型化加工。搭載了新開發(fā)的主軸，適用于高速研削加工，有助于縮短薄型晶圓的加工時(shí)間（于DGP8760相比較）。另外，優(yōu)化了搬運(yùn)部機(jī)構(gòu)的布局，縮短了加工以外的作業(yè)時(shí)間。
第三主軸的多樣化應(yīng)用
作為薄晶圓加工的第3主軸可以有以下選擇。
應(yīng)力釋放(Stress Relief)
有利于環(huán)保，不使用藥液/水的「干式拋光加工」
CMP（特殊選項(xiàng)）
超精密研削加工（特殊選項(xiàng)）
Poligrind
UltraPoligrind
利用第三主軸實(shí)現(xiàn)外質(zhì)吸雜※的應(yīng)用
※外質(zhì)吸雜：是在Si晶圓內(nèi)由研削而形成微細(xì)的變質(zhì)層（吸雜區(qū)域）， 在該吸雜區(qū)域內(nèi)可以捕獲/固定重金屬等雜質(zhì)的技術(shù)
Gettering DP
采用干式拋光，兼顧高抗彎強(qiáng)度和維持外質(zhì)吸雜效果的迪思科的解決方案。
研磨輪「UltraPoligrind」
采用微細(xì)磨?！窾ltraPoligrind」，無需使用化學(xué)藥物即可進(jìn)行薄型晶圓加工。既可維持由于研削產(chǎn)生的外質(zhì)吸雜效果，又可夠獲得以往研磨輪所無法得到的高抗彎強(qiáng)度。
系統(tǒng)擴(kuò)展功能
與多功能晶圓貼膜機(jī)「DFM2800」聯(lián)機(jī)使用，可一次性完成薄型晶圓DAF薄膜（Die Attach Film）貼膜作業(yè)。并且可對(duì)應(yīng)DBG（Dicing Before Grinding）工藝（特殊選項(xiàng)）。
維持與現(xiàn)有8000系列機(jī)型間的兼容性及零部件互換性
DGP8761的研磨輪、磨輪修整板等與現(xiàn)有8000系列機(jī)型具有互換性。另外，該機(jī)型的操作方法及GUI（Graphical User Interface）的畫面構(gòu)成方面也與現(xiàn)有機(jī)型具有大量共通性。
加工物流程系統(tǒng)
用機(jī)械手臂將晶圓從晶圓盒中取出，放到中心定位臺(tái)上進(jìn)行中心定位、
用T1取物手臂將晶圓搬運(yùn)到工作臺(tái)上→
進(jìn)行粗研磨加工→
進(jìn)行細(xì)研磨加工→
進(jìn)行干式拋光加工（去除殘余應(yīng)力）→
用T2取物手臂將晶圓從工作臺(tái)移到離心清洗臺(tái)上→
進(jìn)行清洗→干燥→
移到貼膜機(jī)上（DFM2800）。 或者由機(jī)械手臂將工作物送回到晶圓盒。
Specifications
| Specification | Unit | ||
|---|---|---|---|
| Wafer Diameter | mm | Φ300（Φ200 / Φ300） | |
| Grinding Method (Z1/Z2 axis) | - | In-feed grinding with wafer rotation | |
| Grinding Method (Z3 axis) | - | Anomalous in-feed grinding with wafer rotation | |
| Grinding Wheels | - | Φ300 mm Diamond wheel (grinding-axis) Φ450 mm Dry polishing pad (DP-axis) Φ450 mm CMP pad (CMP-axis） | |
| Machine dimensions (W×D×H) | mm | 1,690 × 3,315 × 1,800 (open cassette) 1,690 × 3,452 × 1,800 （FOUP） | |
| Machine weight | kg | Approx. 6,700(DP, Poligrind) Approx. 6,900 (CMP) | |
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