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小鼠腦損傷模型成像分析儀

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  • 型號
  • 品牌
  • 所在地蘇州市
  • 更新時間2025-03-04
  • 廠商性質(zhì)生產(chǎn)廠家
  • 入駐年限9
  • 實名認證已認證
  • 產(chǎn)品數(shù)量264
  • 人氣值308026
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紐邁科技專注于“小核磁-低場核磁共振成像-分析”技術(shù)研發(fā)及應(yīng)用推廣,具備核磁共振軟件硬件研發(fā)能力、完備的生產(chǎn)、服務(wù)和成熟的運營管理體系,是國家高新技術(shù)企業(yè)。

公司開發(fā)多款核磁共振分析儀,核磁共振成像儀并已獲得多項國家獎項和資質(zhì)認證,小核磁產(chǎn)品廣泛應(yīng)用于農(nóng)業(yè)種子含油率,含水率、食品品質(zhì)、石油測錄井、能源勘探、橡膠交聯(lián)高分子材料、纖維紡織工業(yè)、磁共振造影劑、活體動物成像等行業(yè)領(lǐng)域,獲得業(yè)界*認可。經(jīng)過不斷延伸的小核磁分析技術(shù)與應(yīng)用開發(fā)和多年市場運作,紐邁科技已迅速成長為“小核磁-低場核磁共振技術(shù)”這一新興核磁共振分析儀器產(chǎn)業(yè)*發(fā)展?jié)摿突盍Φ钠髽I(yè)!

 

2009年,前身上海紐邁電子科技有限公司被認定為國家高新技術(shù)企業(yè),獲科技成果獎、優(yōu)秀成果獎、優(yōu)秀企業(yè)標準獎、重點新產(chǎn)品獎

2013年,紐邁電子獲批承擔國家重大科學(xué)儀器設(shè)備專項擔綱企業(yè)

2016年,蘇州紐邁電子科技有限公司,更名為蘇州紐邁分析儀器股份有限公司,新三板掛牌(gu票代碼:836507)

2017年,紐邁分析博士后工作站由省級晉升為“國家博士后科研工作站”

2017-2019年,連續(xù)蟬聯(lián)三屆科學(xué)儀器BCEIA金獎

2020年,紐邁分析蘇州滸墅關(guān)工廠奠基開工,開啟紐邁新10年發(fā)展新篇章

 

 

 

 

 

 

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產(chǎn)地國產(chǎn) 加工定制 樣品類型其他
儀器種類低場核磁共振分析儀
紐邁推出的小鼠腦部損傷模型成像分析儀能提供給您獨-特對比信息,準確而直觀的反映活體動物內(nèi)部情況,設(shè)備已廣泛應(yīng)用于生命科學(xué)領(lǐng)域。小鼠腦部損傷模型成像分析儀是一款功能強大,無損傷性的成像分析儀,幫助您了解實驗對象體內(nèi)結(jié)構(gòu)及各組織對比信息。
小鼠腦損傷模型成像分析儀 產(chǎn)品詳情

在人類探索腦科學(xué)的旅程中,小鼠腦部損傷動物模型扮演著至關(guān)重要的角色。這些模型不僅幫助科學(xué)家們理解腦損傷的復(fù)雜機制,還為開發(fā)新的治療方法提供了實驗平臺。

 

小鼠作為實驗動物,在研究人類腦部疾病中具有無-可-替代的作用。通過建立小鼠腦損傷模型,科學(xué)家可以模擬人類腦損傷的病理過程,進而研究疾病機理和評估治療效果。成像技術(shù)在這一過程中扮演著至關(guān)重要的角色,它能夠無創(chuàng)地觀察活體小鼠腦部的結(jié)構(gòu)和功能變化。

小鼠腦損傷模型成像分析儀

 

常見的小鼠腦部損傷模型介紹:

1. 創(chuàng)傷性腦損傷模型

通過控制性撞擊小鼠頭部,模擬人類頭部受到撞擊后產(chǎn)生的腦損傷。這種模型常用于研究腦震蕩和腦挫傷。

2. 缺血性腦損傷模型

通過阻斷小鼠的大腦中動脈,模擬因血管堵塞導(dǎo)致的腦組織缺血。這種模型有助于研究中風后的腦損傷。

3. 化學(xué)誘導(dǎo)的腦損傷模型

使用特定化學(xué)物質(zhì),如脂多糖(LPS),注射到小鼠體內(nèi),模擬由感染或炎癥引起的腦損傷。

4. 缺氧誘導(dǎo)的腦損傷模型

通過控制環(huán)境氧氣濃度,模擬高原低氧環(huán)境或窒息導(dǎo)致的腦損傷,用于研究缺氧對腦功能的影響。

 

低場核磁共振(LF-NMR)技術(shù)基于核磁共振原理,通過檢測樣品中氫原子核在磁場中的共振頻率,獲取組織結(jié)構(gòu)和功能的信息。以觀察小動物體內(nèi)的結(jié)構(gòu)病變、代謝活動和腫瘤生長等情況。這項技術(shù)因其綠色友好的特性,在小動物研究中得到了廣泛的應(yīng)用,尤其是在疾病模型的建立和藥物研發(fā)領(lǐng)域。

 

紐邁科技推出的小鼠腦部損傷模型成像分析儀能提供給您獨-特對比信息,準確而直觀的反映活體動物內(nèi)部情況,設(shè)備已廣泛應(yīng)用于生命科學(xué)領(lǐng)域。小鼠腦部損傷模型成像分析儀是一款功能強大,無損傷性的成像分析儀,幫助您了解實驗對象體內(nèi)結(jié)構(gòu)及各組織對比信息。

小鼠腦損傷模型成像分析儀

 

小鼠腦部損傷模型成像分析儀

基本參數(shù):

磁體材料:永磁體

磁場強度:1T±0.05T

磁體均勻度:≤30ppm

樣品范圍:實驗鼠(離體組織、小鼠、大鼠,1-350g)


產(chǎn)品特點

永磁技術(shù),無需制冷劑和屏蔽房

空間分辨率高,清晰顯示組織結(jié)構(gòu)

組織對比度高,明顯區(qū)分組織差異


產(chǎn)品功能:

多參數(shù)成像:如T1加權(quán)、T2加權(quán)、質(zhì)子密度加權(quán)、水脂抑制成像等

臨床前研究:組織結(jié)構(gòu)病變及過程研究,藥效評價

造影劑評價:磁共振造影劑弛豫率

磁性納米顆粒追蹤:輔助診斷、光熱治療及藥物遞送研究

 

應(yīng)用案例:

小鼠腦損傷模型成像分析儀


關(guān)鍵詞:核磁共振 NMR
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