均溫氧化擴(kuò)散爐

1.溫場(chǎng)均勻，恒溫區(qū)長(zhǎng)度及精度：300～1250mm  800~1200℃±1℃

2.具有強(qiáng)大的軟件功能，NBD-101EP嵌入式操作系統(tǒng)，用戶(hù)可以方便地修改工藝控制參數(shù)，并可隨時(shí)顯示各種工藝狀態(tài)；配有故障自診斷軟件； 

3.程序可以實(shí)現(xiàn)手/自動(dòng)工作，在停電或中途停機(jī)后，再次啟動(dòng)可以根據(jù)工藝手動(dòng)升溫，節(jié)省工藝時(shí)間； 

4.具有多種工藝管路，可供用戶(hù)方便選擇； 

5.冷端檢測(cè)環(huán)境溫度進(jìn)行溫度補(bǔ)償，避免環(huán)境溫度變化，對(duì)爐膛溫度產(chǎn)生影響，避免層間干擾； 

6.可存儲(chǔ)多組PID參數(shù)供系統(tǒng)運(yùn)行調(diào)用功能，具有多點(diǎn)溫度補(bǔ)償

7.氣體流量采用數(shù)字化精確控制，采用模擬信號(hào)閉環(huán)控制，強(qiáng)弱電分開(kāi)，各種數(shù)據(jù)交互采用標(biāo)準(zhǔn)總線(xiàn)，提高抗干擾能力，保證數(shù)據(jù)安全；氣體打開(kāi)具有緩啟動(dòng)功能； 

8.具有多種報(bào)警功能及安全保護(hù)功能； 9.恒溫區(qū)自動(dòng)調(diào)整，串級(jí)控制，可準(zhǔn)確控制反應(yīng)管的實(shí)際工藝溫度； 

10.壓力自動(dòng)調(diào)整技術(shù)，將壓力參數(shù)引入晶體硅氧化工藝，有效減小了尾部排風(fēng)對(duì)工藝的干擾，減小由排風(fēng)引起的工藝波動(dòng)。