實(shí)驗(yàn)室硅片檢測(cè)顯微鏡 TGB-900詳細(xì)技術(shù)參數(shù)
一、儀器用途
TGB-900 大平臺(tái)明暗場(chǎng)硅片檢測(cè)顯微鏡是適用于對(duì)太陽(yáng)能電池硅片的顯微觀察。本儀器配有大移動(dòng)范圍并能快速移動(dòng)的載物臺(tái)、落射照明器、長(zhǎng)工作距離的平場(chǎng)消色差物鏡、大視野目鏡，圖像清晰、襯度好，同時(shí)配有偏光裝置，及其高像素的數(shù)碼攝像頭。本儀器配有長(zhǎng)距平場(chǎng)消色差物鏡,使觀察硅片時(shí)圖像更加清晰,是檢測(cè)太陽(yáng)能電池硅片的”金字塔” 的微觀形貌分布情況,及硅片的缺陷分析的理想儀器。
硅片檢測(cè)顯微鏡可以觀察到肉眼難觀測(cè)的位錯(cuò)、劃痕、崩邊等;還可以對(duì)硅片的雜質(zhì)、殘留物成分分析。雜質(zhì)包括 顆粒、有機(jī)雜質(zhì)、無(wú)機(jī)雜質(zhì)、金屬離子、硅粉粉塵等，造成磨片后的硅片易發(fā)生變花、發(fā)藍(lán)、發(fā)黑等現(xiàn)象，使磨片不合格。是太陽(yáng)能電池硅片生產(chǎn)過(guò)程中的檢測(cè)儀器之一。
硅片檢測(cè)顯微鏡可以觀察到肉眼難觀測(cè)的位錯(cuò)、劃痕、崩邊等;還可以對(duì)硅片的雜質(zhì)、殘留物成分分析。雜質(zhì)包括 顆粒、有機(jī)雜質(zhì)、無(wú)機(jī)雜質(zhì)、金屬離子、硅粉粉塵等，造成磨片后的硅片易發(fā)生變花、發(fā)藍(lán)、發(fā)黑等現(xiàn)象，使磨片不合格。是太陽(yáng)能電池硅片生產(chǎn)過(guò)程中的檢測(cè)儀器之一。
二、技術(shù)參數(shù)
1.目鏡
| 類型 | 放大倍數(shù) | 視場(chǎng)(mm) |
| 大視野目鏡 | 10X | Φ22 |
2.物鏡
| 類別 | 放大倍數(shù) | 數(shù)值孔徑(NA) | 工作距離(mm) |
| 長(zhǎng)距平場(chǎng)消色差物鏡 | 5X | 0.12 | 18.3 |
| 10X | 0.25 | 8.9 | |
| 20X | 0.40 | 8.7 | |
| 40X | 0.60 | 3.7 | |
| 80X | 0.80 | 0.96 |
3.光學(xué)放大倍數(shù)：50X 100X 200X 400X 800X
4.系統(tǒng)參考放大倍數(shù)：50X-2600X
5.落射照明器：6V/20W鹵素?zé)?，亮度可調(diào)
6.濾色片組：黃色、藍(lán)色、綠色、磨砂玻璃
7.偏光裝置：可插入式起偏振片和三目頭內(nèi)置檢偏振片
8.載物臺(tái)：(配有快速移動(dòng)裝置)
尺寸:250*230mm 移動(dòng)范圍:153*153mm[標(biāo)配]
尺寸:274*274mm 移動(dòng)范圍:203*203mm[選配]
9.粗微同軸調(diào)焦機(jī)構(gòu)，微動(dòng)手輪格值：0.002mm
10.瞳距調(diào)節(jié)范圍：53-75m
11.成像系統(tǒng):高像素的CCD攝像頭
4.系統(tǒng)參考放大倍數(shù)：50X-2600X
5.落射照明器：6V/20W鹵素?zé)?，亮度可調(diào)
6.濾色片組：黃色、藍(lán)色、綠色、磨砂玻璃
7.偏光裝置：可插入式起偏振片和三目頭內(nèi)置檢偏振片
8.載物臺(tái)：(配有快速移動(dòng)裝置)
尺寸:250*230mm 移動(dòng)范圍:153*153mm[標(biāo)配]
尺寸:274*274mm 移動(dòng)范圍:203*203mm[選配]
9.粗微同軸調(diào)焦機(jī)構(gòu)，微動(dòng)手輪格值：0.002mm
10.瞳距調(diào)節(jié)范圍：53-75m
11.成像系統(tǒng):高像素的CCD攝像頭
三、系統(tǒng)組成
(TGB-900)：1.硅片顯微微 2.適配鏡 3.CCD攝像器 4.A/D圖像采集卡
四、總放大參考倍數(shù)
TGB-900：50--3800倍
五、選購(gòu)件
1.圖像測(cè)量軟件 2.目鏡： 10X(帶刻度) 3.物鏡：50X 60X 100X
