M系列可滿足以下類型用戶的需求：
非常小的樣品，主要應(yīng)用于半導(dǎo)體，連接器或PCB領(lǐng)域
需要測(cè)試多個(gè)樣品的多個(gè)位置
非常薄的涂層（<100nm）
需要在短時(shí)間內(nèi)完成測(cè)量（1-5秒）
保證符合IPC-4552A，4553A，4554和4556
ASTM B568，DIN 50987和ISO 3497
渴望升級(jí)舊的XRF的性能和效率–并獲得豐厚的以舊換新獎(jiǎng)勵(lì)！
M系列 是用于最小特征的高性能電鍍厚度測(cè)量產(chǎn)品。 M系列中的多毛細(xì)管光學(xué)元件比 O系列，將 X 射線束聚焦到 7.5μm FWHM。 為了在該尺度上測(cè)量特征，包括具有更高數(shù)碼變焦的 150 倍放大率相機(jī)。 隨著放大倍數(shù)的增加，視野變得更加受限，因此第二臺(tái)相機(jī)拍攝要測(cè)量的零件的宏觀圖像。 雙攝像頭系統(tǒng)允許操作員查看整個(gè)零件，單擊圖像以使用高磁力攝像頭放大，并精確定位要測(cè)量的特征。
高精度可編程XY平臺(tái)可用于選擇和測(cè)量多個(gè)點(diǎn); 模式識(shí)別軟件也可以自動(dòng)執(zhí)行該操作。2-D連續(xù)掃描功能可查看硅片等部件表面區(qū)域的涂層形貌。
標(biāo)準(zhǔn)配置包括7.5μm光學(xué)器件和高分辨率SDD檢測(cè)器，用于處理更高的計(jì)數(shù)率。 可編程XY樣品臺(tái)也是標(biāo)準(zhǔn)配置。 光學(xué)系統(tǒng)的焦距很近，因此使用M系列測(cè)量的樣品必須平坦。
性能表現(xiàn)
| 鎳鈀金 | 化學(xué)鎳 | ||||
|---|---|---|---|---|---|
| 微米金 | 微米鈀 | 微米鎳 | 微米NiP | 微米％P | |
| Ave | 0.043 | 0.08 | 3.72 | 10.202 | 10.17 |
| StdDev | 0.0005 | 0.0009 | 0.00010 | 0.1089 | 0.29 |
| Range | 0.0015 | 0.0030 | 0.040 | 0.3863 | 0.9900 |
| %RSD | 1.05% | 1.13% | 0.03% | 1.07% | 2.85% |
產(chǎn)品規(guī)格
| X射線管： | 50W鉬靶射線管 15um毛細(xì)管光學(xué)結(jié)構(gòu) |
| 探測(cè)器： | 高分辨率SDD硅漂移探測(cè)器 |
| 分析層數(shù) 及元素?cái)?shù)： | 5層（4層+基材） 每層可分析10種元素，成分分析最多可分析25種元素 |
| 濾波器/準(zhǔn)直器： | 4位置一次濾波器 |
| 焦距： | 固定為0.05英寸（1.27毫米） |
| 數(shù)字脈沖處理： | 4096 多通道數(shù)字處理器，自動(dòng)死時(shí)間和逃逸峰校正 |
| 計(jì)算機(jī)： | 聯(lián)想商用i5控制電腦(Win10 簡(jiǎn)體中文）,顯示器,彩色噴墨打印機(jī) |
| 相機(jī)： | 1/4英寸（6毫米）CMOS-1280×720 VGA分辨率，在250毫米（45英寸）屏幕上，雙攝像頭為381倍，單攝像頭為15倍 |
| 視頻放大倍率： | 250X：配備雙攝像頭45X：15上的單攝像頭“屏幕 |
| 電源： | 150W，100-240V，頻率范圍為47Hz至63Hz |
| 工作環(huán)境： | 溫度介于68°F（20°C）與77°F（25°C）之間，相對(duì)濕度小于98％，無(wú)冷凝 |
| 重量： | 70kg |
| 可編程XY平臺(tái)： | 工作臺(tái)尺寸：431毫米（17英寸）x 406毫米（16英寸）| 行程：165毫米（6.5英寸）x 165毫米（6.5英寸）高精度 現(xiàn)在可用 擴(kuò)展 舞臺(tái)選擇 |
| 樣品倉(cāng)尺寸： | 高度：137mm（5.4"），寬度：310mm（12"），深度：340mm（13"） |
| 外形尺寸： | 高度：500mm（20"），寬度：450mm（18"），深度：600mm（24"） |
