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高品質(zhì)動(dòng)態(tài)吸附儀

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  • 更新時(shí)間2025-07-15
  • 廠商性質(zhì)生產(chǎn)廠家
  • 所在地區(qū)長(zhǎng)沙市
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同類(lèi)產(chǎn)品

    華思儀器有限公司是一家集儀器研發(fā)、生產(chǎn)和銷(xiāo)售為一體的創(chuàng)新性科技企業(yè),團(tuán)隊(duì)人員均來(lái)自北京大學(xué)。產(chǎn)品研發(fā)與營(yíng)銷(xiāo)中心設(shè)在北京大學(xué)科技園,制造工廠位于湖南省長(zhǎng)沙市*園區(qū)內(nèi)。本公司擁有多名在科學(xué)研究和儀器制造方面經(jīng)驗(yàn)豐富的研發(fā)人員,其中高級(jí)工程師2人,博士及博士后3人,3人具有國(guó)外留學(xué)經(jīng)歷。

    本公司在儀器制造工藝上精益求精,并取得原創(chuàng)性成果十余項(xiàng)。

    本公司充分發(fā)揮團(tuán)隊(duì)創(chuàng)新精神和深厚研發(fā)實(shí)力,現(xiàn)已形成了固定床反應(yīng)裝置、吸附儀、真空裝置和原位反應(yīng)裝置等四大類(lèi)產(chǎn)品。具體有固定床反應(yīng)裝置、光熱固定床反應(yīng)裝置、流化床反應(yīng)器、漿態(tài)床反應(yīng)器、動(dòng)態(tài)吸附儀、低溫動(dòng)態(tài)吸附儀、動(dòng)態(tài)吸附分析儀、靜態(tài)吸附儀、氣相色譜、真空旋轉(zhuǎn)涂抹裝置、真空沉積裝置、低溫液體循環(huán)設(shè)備、高溫爐、真空透射原位紅外檢測(cè)裝置和可快速升降溫反應(yīng)釜等產(chǎn)品。產(chǎn)品現(xiàn)已被北京大學(xué)、清華大學(xué)、南開(kāi)大學(xué)、浙江大學(xué)、中科院大連化學(xué)物理研究所、蘭州化學(xué)物理研究所等多個(gè)高校和研究院采用,并得到用戶的*肯定和贊許。

    “與遠(yuǎn)見(jiàn)者同行”是本公司秉持的理念,公司所有員工真誠(chéng)期待您的光臨與合作,我們將從設(shè)備配置方案、安裝調(diào)試到售后維護(hù),*地向客戶提供Z貼心、*質(zhì)的服務(wù)。我們不僅提供定型化的產(chǎn)品,還可根據(jù)客戶對(duì)裝置的工藝流程、自控程度以及硬件配置等方面的*要求,提供量身定做的個(gè)性化產(chǎn)品,為客戶創(chuàng)新的科研工作提供可靠實(shí)用的儀器設(shè)備。

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高品質(zhì)動(dòng)態(tài)吸附儀(1)產(chǎn)品介紹高品質(zhì)動(dòng)態(tài)吸附儀DAS-7000是一款高品質(zhì)高性能的動(dòng)態(tài)吸附儀,它主要可用于測(cè)定催化劑樣品的氧化還原性能、表面酸堿性、表面物種結(jié)構(gòu)和吸附能力,以及吸附量、化學(xué)比表面積、分散度等性能,操作方式分別為程序升溫和脈沖滴定
高品質(zhì)動(dòng)態(tài)吸附儀 產(chǎn)品詳情

高品質(zhì)動(dòng)態(tài)吸附儀


(1) 產(chǎn)品介紹

高品質(zhì)動(dòng)態(tài)吸附儀DAS-7000是一款高品質(zhì)高性能的動(dòng)態(tài)吸附儀,它主要可用于測(cè)定催化劑樣品的氧化還原性能、表面酸堿性、表面物種結(jié)構(gòu)和吸附能力,以及吸附量、化學(xué)比表面積、分散度等性能,操作方式分別為程序升溫和脈沖滴定。

該裝置采用面板和軟件共同操作的方式,面板上流路直觀清晰,這有利于實(shí)現(xiàn)對(duì)儀器閥門(mén)和管路的操作和控制,而對(duì)于電路部分,可實(shí)現(xiàn)面板和軟件間的相互切換,則有利于對(duì)儀器和數(shù)據(jù)的保護(hù);該裝置配有特定的測(cè)控和數(shù)據(jù)分析軟件,完成測(cè)定結(jié)果的自動(dòng)化生成,與此同時(shí)可對(duì)已測(cè)定結(jié)果進(jìn)行數(shù)據(jù)后處理。該吸附儀配備自主研發(fā)的高靈敏性檢測(cè)器,其死體積小、阻值高。除此之外,本儀器簡(jiǎn)便的結(jié)構(gòu)形式方便其與其他分析儀器耦合使用,例如色譜、質(zhì)譜等??偟膩?lái)說(shuō),相比于國(guó)內(nèi)外同類(lèi)產(chǎn)品,該裝置具有更高的精度、死體積小、重復(fù)性好、操作簡(jiǎn)便等優(yōu)勢(shì)。


(2) 特點(diǎn)

1. 適用于塊狀和顆粒狀樣品;

2. 面板和軟件共同操作,面板上實(shí)現(xiàn)對(duì)儀器閥門(mén)和管路的操作和控制,清晰可見(jiàn);而在電路部分上,可實(shí)現(xiàn)面板和軟件間的相互切換,面板和軟件上均可以進(jìn)行控制;

3. 配備手動(dòng)六通閥,可實(shí)現(xiàn)脈沖滴定過(guò)程;

4. 反應(yīng)爐溫度控制精確(控溫精度<±1 ℃),程序控溫線性度高(線性可達(dá)到99.999%);

5. 帶有注射口,注射墊片可更換,方便定量;

6. 通過(guò)閥門(mén)切換將有毒氣體或者腐蝕性氣體排出,不經(jīng)過(guò)TCD檢測(cè)器,防止污染TCD檢測(cè)器;

7. 儀器后端配備有尾氣排放連接口,可與色譜(GC)、紅外(IR)、質(zhì)譜(MASS)等分析儀器聯(lián)用;

8. 六通閥外置兩種定量環(huán),體積為0.5 ml1 ml;

9. 配有wifi連接口,可以通過(guò)wifi式與電腦進(jìn)行連接,無(wú)需數(shù)據(jù)線;

10. 小型化結(jié)構(gòu),尺寸為600 mm(寬)*520 mm(高)*400 mm(厚)。


(3) 主要技術(shù)指標(biāo)

1. 溫度0~1200 ℃,長(zhǎng)期恒溫溫度不超過(guò)1000 ℃;

2. 反應(yīng)爐溫度曲線:線性可達(dá)到99.999%,重復(fù)性偏差低于1 ℃;

3. 程序升溫速率:0.5~90 ℃/min(常規(guī)使用10℃/min),也可以在軟件上設(shè)置程序降溫程序;

4. 催化劑裝樣體積:0~1 ml;

5. 配備兩路質(zhì)量流量計(jì),均使用氮?dú)膺M(jìn)行標(biāo)定,量程100 ml/min,準(zhǔn)確度±1% F.S,線性偏差±1% F.S,精度±0.2% F.S,響應(yīng)時(shí)間2 s;

6. 軟件上設(shè)置12段溫度程序,具有獨(dú)立的PID參數(shù),控制精度:0.2% FS;

7. 采用開(kāi)式U型反應(yīng)爐結(jié)構(gòu),降溫快,從1000 ℃下降至100 ℃只需要不到10 min

8. TCD死體積~0.3 ml,靈敏度>108 mol-1(NH3)

9. TCD穩(wěn)定性好,控溫精度<±0.1 oC


(4) 實(shí)物圖

 

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(5) 軟件操作界面

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實(shí)時(shí)曲線界面


 圖片1.png

手動(dòng)操作界面

優(yōu)點(diǎn):

1. 實(shí)時(shí)監(jiān)控儀器全狀態(tài),可實(shí)時(shí)獲取流量計(jì)流量、溫度、橋流等信息;

2. 可手動(dòng)編輯多達(dá)14段溫度程序,可點(diǎn)擊執(zhí)行和降溫按鈕即實(shí)行程序運(yùn)行。


(6) 實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)

6.1 H2-TPR譜圖

測(cè)試條件:取0.1 g活性碳負(fù)載催化劑在He氣氛150 oC下處理1 h后降至室溫,切換為5%H2/N2,待基線平穩(wěn)后程序升溫至600 oC,橋流120 mA, H2/N2混氣流量30 ml/min

 1.png

不同焙燒溫度處理的CuO基催化劑的CO2-TPD譜圖

6.2 NH3-TPD譜圖

測(cè)試條件:取0.1g ZSM-5負(fù)載催化劑在He氣氛550 oC下處理30 min,后降溫至100 oC,轉(zhuǎn)為NH3吸附1 h后再通入He進(jìn)行吹掃,待基線平穩(wěn)后程序升溫至900 oC,橋流120 mA,載氣He流量40 ml/min。

    1.png

ZSM-5負(fù)載催化劑的NH3-TPD譜圖

6.3 CO2-TPD譜圖

測(cè)試條件:取0.1g不同焙燒溫度處理的CuO基催化劑在He氣氛150 oC下處理1 h,后降溫至40 oC,轉(zhuǎn)為CO2吸附1 h后再通入He進(jìn)行吹掃,待基線平穩(wěn)后程序升溫至800 oC,橋流120 mA,載氣He流量40 ml/min。

 1.png

不同焙燒溫度處理的CuO基催化劑的CO2-TPD譜圖



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