一、主要測試功能：
1薄膜及波導折射率/厚度/光損測量
2體材料折射率的測量
3薄膜及體材料的雙折射測量
4液體折射率的測量
5折射率隨溫度變化的測量分析
6折射率隨深度變化的測量分析
二、主要應用領域：
1光波導器件芯片的制備
2激光晶體的制備
3聚合物材料的屬性研究
4顯示技術材料的測量
5光/磁存儲材料的測量
6光學薄膜的制備
產(chǎn)品編號：Prism Coupler- SPA-4000
產(chǎn)品類別：檢測儀器
一、主要測試功能：
1薄膜及波導折射率/厚度/光損測量
2體材料折射率的測量
3薄膜及體材料的雙折射測量
4液體折射率的測量
5折射率隨溫度變化的測量分析
6折射率隨深度變化的測量分析
1光波導器件芯片的制備
2激光晶體的制備
3聚合物材料的屬性研究
4顯示技術材料的測量
5光/磁存儲材料的測量
6光學薄膜的制備
三、主要測量參數(shù)：
| 測量對象 | 具體內(nèi)容 | |
| 折射率 | 折射率測量范圍 | 1.0 to 2.45 |
| 折射率精度 | 0.001 | |
| 折射率分辨率 | ±0.0005 | |
| 厚度 | 厚度測量范圍 | 0.4?-20? |
| 厚度精確度 | ±0.5% | |
| 厚度分辨率 | ±0.01? | |
| 體材料 （僅測折射率） | 折射率精度 | 0.0005 |
| 折射率分辨率 | ±0.0001 | |
| 厚薄膜 | 厚度測量范圍 | 2?-150? |
| 液體 （僅測折射率） | 折射率測量范圍 | 1.0 to 2.4 |
| 折射率精度 | ± 0.0005 | |
| 熱光系數(shù) | 溫度測試范圍 | 室溫－150℃ |
| 波導損耗測量 | 測量限度 | below 0.05dB/cm |
四、操作波長：
632.8nm,830nm, 1310nm,1550nm以及根據(jù)客戶要求的其他可見光/近紅外光。用戶zui多可同時選用兩個波長的激光源。
五、可測試的薄膜材料和稱底材料的類型：
任何光滑的稱底材料均可,并包括：硅、砷化鎵、玻璃、石英、GGG、藍寶石、鋰酸鈮等。
| 薄膜類型 | 稱底類型 | |
| Silicon Nitride | Silicon | |
| Silicon Dioxide | Silicon Oxynitride | GaAs |
| Low-k films | Polymers | Quartz |
| Polyimides | ITO | Glass |
| Zinc Sulfide | Titanium Dioxide | Sapphire |
| Sapphire | Epi Garnet | GGG |
| Photoresists | Holographic Gels | Lithium Niobate |
七、一些材料厚度測量范圍：
厚度測量范圍表
| 薄膜類型和折射率 | 厚度和折射率一起測量 | 僅測量厚度 |
| 硅基上的二氧化硅（n=1.46） | 0.48-15mm | 0.20-0.48mm |
| 硅基上的光刻膠（n=1.63） | 0.42-15mm | 0.18-0.42mm |
| 二氧化硅上的光刻膠（n=1.63） | 0.70-15mm | 0.30-0.70mm |
| 硅基上的聚酰亞胺（n=1.72） | 0.38-15mm | 0.15-0.38mm |
| 二氧化硅上的聚酰亞胺（n=1.72） | 0.50-15mm | 0.16-0.50mm |
| 硅基上的氮氧化硅（n=1.80） | 0.35-15mm | 0.14-0.35mm |
| 二氧化硅上的氮氧化硅（n=1.80） | 0.45-15mm | 0.13-0.45mm |
| 硅基上的氮化硅（n=2.0） | 0.32-15mm | 0.12-0.32mm |
| 二氧化硅上的氮化硅（n=2.0） | 0.30-15mm | 0.15-0.30mm |
