1．工作溫度：≤230℃
2．工作壓力：≤2MPa（表壓）
3．升溫、降溫速率：≤5℃/min
水熱合成釜 合成釜 型號：DP-HCF-21 （200ML）
| 參數 主要指標: 1．工作溫度：≤230℃ 2．工作壓力：≤2MPa（表壓） 3．升溫、降溫速率：≤5℃/min 產品規(guī)格：25ml 50ml 100ml 120ml 200ml 另可根據用戶需求。 | ||
| 主要點 點: 本水熱合成釜采用優(yōu)質不銹鋼加工而成。釜體與釜蓋密封采用耐用、可靠的線密封結構，密封效果長期穩(wěn)定無泄漏。 釜蓋緊固結構采用均置螺栓、并輔以釜體定位裝置，以利合成釜的開啟與密閉。 本水熱合成釜采用外加熱方式，以縮小體積，并有利多反應釜處于同反應操作溫度（如將多個反應釜置于烘箱中加熱）。 | ||
用途: 水熱合成釜是為在定溫度、定壓力條件下合成化學物質提供的反應器。它廣泛應用于新材料、能源、環(huán)境工程等域的科研試驗中，是校教學、科研單位行科學研究的常用小型反應器 | ||
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