【儀表網(wǎng) 研發(fā)快訊】近期，中國科學院上海光學精密機械研究所高功率激光物理聯(lián)合實驗室張軍勇團隊聯(lián)合哈爾濱工業(yè)大學趙永蓬教授課題組首次完成EUV和軟x射線聚焦光場的陣列調控與整形，解決了極紫外和x射線波段的衍射成像和干涉?zhèn)鞲械脑骷芟迒栴}。相關成果以“Free light?shape focusing in extreme?ultraviolet radiation with self?evolutionary photon sieves”為題，發(fā)表于Scientific Reports。
 

　　自倫琴發(fā)現(xiàn)x射線以來，高相干的短波光源以及高性能的短波聚焦元件一直是限制x射線學發(fā)展的兩大瓶頸。同步輻射和自由電子激光等集中在軟x射線和硬x射線波段，而放電等離子體激光覆蓋了極紫外和部分軟x射線波段。隨著高相干短波光源問題的緩解，更加迫切需要EUV和x射線的聚焦調控器件。而材料在EUV和軟x射線波段呈現(xiàn)出強吸收，在硬x射線波段表現(xiàn)出強穿透，菲涅耳波帶片是目前唯一可用的透射聚焦元件。上海光機所是國內較早從事x射線器件設計和應用的單位，尤其是在傳統(tǒng)波帶片和光子篩的基礎上，最早提出并發(fā)展了多種不同光學功能的多焦光子篩，如古希臘梯子光子篩、費馬螺旋光子篩等，能夠滿足短波衍射成像和干涉?zhèn)鞲械募夹g需求。
 

　　相比環(huán)數(shù)有限的波帶片，數(shù)以百萬、億計的小孔為功能型光子篩的出現(xiàn)提供了近乎無限的設計自由度，聯(lián)合團隊利用優(yōu)化算法設計了自進化光子篩，實現(xiàn)了EUV波段的聚焦光場陣列調控和整形。實驗中從放電等離子體激光69.8nm、46.9nm和13.5nm中優(yōu)化出46.9nm激光照射光子篩，用光刻膠記錄聚焦光場，原子力顯微鏡讀取數(shù)據(jù)，成功獲得多組百納米聚焦的結構光斑，結果符合理論計算的衍射極限聚焦。EUV和x射線陣列調控和整形的實現(xiàn)為短波的結構光刻、水窗段的活體生物細胞成像、激光等離子體的干涉診斷、x射線顯微鏡和相干衍射成像等拓展了新的發(fā)展空間。
 

　　相關工作得到國家自然科學基金、上海市青年科技英才揚帆計劃、中國科學院戰(zhàn)略性先導科技專項A類等項目的支持。
 

圖1極紫外光的結構聚焦，(a)焦斑的AFM圖，(b-c)仿真焦斑的光強與相位
 

圖2極紫外光的多層陣列光斑