【儀表儀表網 儀表標準】10月25日，全國新材料與納米計量技術委員會發(fā)布了《激光衍射法納米光柵線距校準規(guī)范》征求意見稿，并面向有關單位征求意見。
 

 

　　隨著微納科技與微納產業(yè)的快速發(fā)展，各類電子和光學顯微鏡在微納技術領域的保有量迅速增加。納米光柵線距樣板作為傳遞標準廣泛應用于掃描電子顯微鏡、掃描探針顯微鏡以及光學顯微鏡的放大倍率的校準，是各類顯微鏡測量準確性的保證。
 

　　2006年，中國計量科學研究院研制的激光衍射儀參加了Nano5 二維光柵比對。2007年，中國計量科學研究院依據(jù)自編校準方法“NIM-ZY-DL-CD-501”建立了計量標準“納米光柵線距樣板校準裝置”。該自編校準方法沿用至今。目前，國內尚沒有合適的標準文件規(guī)范校準納米光柵線距的方法和行為，因此迫切要求編制相應的校準規(guī)范，以保證量值溯源的準確和統(tǒng)一。
 

　　根據(jù)市場監(jiān)管總局2018年國家計量技術規(guī)范制定、修訂計劃，受全國新材料與納米計量技術委員會的委托，由中國計量科學研究院負責制定《激光衍射法納米光柵線距校準規(guī)范》，同濟大學作為參加單位參與了本技術規(guī)范的制定工作。
 

　　JJF1001《通用計量術語及定義》、JJF1071《國家計量校準規(guī)范編寫規(guī)則》、JJF1059《測量不確定度評定與表示》共同構成支撐本校準規(guī)范制定工作的基礎性系列規(guī)范。
 

　　在本規(guī)范編制過程中，重點參照了以下國家標準及計量技術規(guī)范：JJF 1001-2011 通用計量術語及定義；JJF 1059.1-2012 測量不確定度評定與表示；JJF 1071-2010 國家計量校準規(guī)范編寫規(guī)則GB/T 13962-2009 光學儀器術語；IEC/TS 62622:2012 Nanotechnologies – Description, measurement anddimensional quality parameters of artificial gratings。
 

　　按照JJF 1071—2010《國家計量校準規(guī)范編寫規(guī)則》的要求制定納米光柵線距的衍射法校準規(guī)范，在內容和格式上與JJF 1071-2010 保持一致。校準規(guī)范的具體內容有范圍、引用文件、概述、計量特性、校準條件、校準項目和校準方法、校準結果的表達、復校時間間隔等。(更多詳情請見附件)。
 

　　本規(guī)范為發(fā)布，適用于反射光柵的校準。