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光學(xué)膜厚儀的測量原理及結(jié)構(gòu)

時間:2020/9/21閱讀:3891
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FM100-SE膜厚儀

產(chǎn)品簡介:

膜厚儀主要用于光面基底上的透明、半透明薄膜樣品進(jìn)行常規(guī)測量,可得到單層或少數(shù)多層薄膜的膜厚,也可得到薄膜的光學(xué)參數(shù)(如折射率N、消光系數(shù)K等);適用于工業(yè)和科研中的常規(guī)測量,可應(yīng)用于多種薄膜鍍層工藝中,如光學(xué)機(jī)械拋光、化學(xué)氣象沉積、物理氣相沉積、硅片涂膠工藝等。

性能特點(diǎn):

1.快速測量:僅需1-2秒就可以完成一次測量

2.測量范圍廣:可測量膜厚范圍從15nm-70um

3.簡潔操作:常規(guī)操作,只需點(diǎn)擊一個按鈕就可完成操作

4.高效穩(wěn)定:適用于工業(yè)現(xiàn)場,穩(wěn)定可靠

5.經(jīng)濟(jì)實(shí)用:能夠滿足膜厚的常規(guī)測量,成本較低

光學(xué)機(jī)械組件:

1.光源:寬光譜光源

2.探測器:高靈敏度低噪音陣列式光譜探測器

3.控制箱:含電路板、控制單元、電源、光源

4.輸出設(shè)備:軟件界面支持輸出、輸入光譜數(shù)據(jù)庫

技術(shù)參數(shù):

光譜范圍:370-1000nm

光譜分辨率:1.6nm

樣品大?。旱湫途ПP圓尺寸12寸(即直徑30mm)

測量光斑:1.5nm

膜厚測量范圍:15nm-100um

膜厚層數(shù):1-4層

膜厚測量重復(fù)性:0.1nm

準(zhǔn)確度:2nm

單次測量時間:1-2秒,與測量設(shè)置和樣品性質(zhì)有關(guān)

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