今天我們來說一下黃光制成，黃光制成能力大于激光能力的，也就是說黃光制成能把線做的很細。

我們先來看一下黃光制成的工藝

我們從上面的工藝一步步來講解

1、PR 前清洗

     ITOGLASS 清洗指用物理的方法（磨刷噴洗）和化學的方法（去離子水 DI 水和 KOH）將玻璃表面的臟污和油污、雜質(zhì)除去并干燥的過程。

2、PR 涂佈指在玻璃的導電層表面均勻涂上一層光刻膠。

3、前烘指在一定溫度下將涂有光刻膠的玻璃烘一段時間、使光刻膠的溶劑揮發(fā)，形成固體的PR層。

4、曝光

      指用紫外線通過預先設置好的菲林垂直照射光刻膠表面，使被照射部分的光刻膠發(fā)生反應。

5、顯影

指用弱 KOH 溶液去離玻璃表面將徑光照射部分的光刻膠除去，保留未照射部分的光刻膠。

6、堅膜指將玻璃在徑一次高溫處理，使光刻膠膜更加堅固。

7、蝕刻指用適當?shù)乃嵋簩o光刻膠覆蓋的 ITO 層除去，這樣就得到了我們所需要的 ITO電極圖形。

8、脫膜指用較強的 KOH 剝膜液將殘留光刻膠除去，將玻璃表面清洗干燥。

1. PR 前清洗

A. 清洗：指清除吸附在玻璃表面的各種有害雜質(zhì)或油污。

清洗方法是利用各種化學濃劑（KOH）和有機濃劑與吸附在玻璃表面上的雜質(zhì)及油污發(fā)生化學反應和濃解作用，或以磨刷噴洗等物理措施，使雜質(zhì)從玻璃表面脫落，然后用大量的去離子水（DI 水）沖洗，從而獲得潔凈的玻璃表面。（風切是關鍵）

B. 干燥：因經(jīng)過清洗后的玻璃，表面沾有水或有機濃劑等清洗液。這樣會對后續(xù)工序造成不良影響，特別是對后續(xù)光刻工藝會產(chǎn)生浮膠、鉆蝕、圖形不清晰等不良現(xiàn)象。因此，清洗后的玻璃必須經(jīng)過干燥處理。

目前常采用的方法是烘干法，而是利用高溫烘烤，使玻璃表面的水分氣化變?yōu)樗魵舛サ倪^程，此方法省時又省力。但是如果水的純度不變，空氣凈化等不多或干燥機溫度不夠，玻璃表面殘存的水分 雖經(jīng)氣化為蒸氣，但在玻璃表面還會留下水珠，這種水珠將直接影響后續(xù)工序的產(chǎn)品質(zhì)量。

C. 十槽清洗機，PR 清洗機制程參數(shù)之設定 ：

1---3 槽 KOH 溶液為 0.4~0.7N，溫度為 60±5℃，浸泡時間為 2~3min／槽

純水溢流量為 0.5±0.2 ㎡／n.

KOH 溶度為 1.0N~1.6N,溫度為 40±5℃,噴洗壓為 0.2~1.0kgf/c ㎡,傳動速度為 3.0~4.5m/min,磨刷轉速為 85~95rpm,壓力為 0.2~1.0kg/c ㎡，純水溫度為 40±5 ℃，干燥機 1.2.3 段溫度為 110℃±10℃。

注：玻璃清洗潔凈度不夠之改改善對策，適當加入少許 KOH 溶液，改變 KOH，溶液，經(jīng)常擦拭風切口，噴洗等處，亦可調(diào)態(tài)清洗機傳動 速度，將傳速度減慢。

2. PR 涂佈

光刻是一種圖形復印和化學腐蝕相結合，綜合性的精密表面加工技術。光刻的目的就是按照產(chǎn)品設計要求，在導電玻璃上覆感光膠。

A． 光刻膠的配制

光刻膠的性能與光刻膠的配比有關。配比的選擇原則是即要光刻膠是有良好的抗蝕能力，又要有較高的分辨率。但兩者往往是相互矛盾的，不能同時達到。因此，必須根據(jù)不同的光刻對象和要求，選取不同的配比。

光刻膠的配制應在暗室（潔凈度較高的房間）中進行。用量筒按配方比例將原膠及溶劑分別量好，再將溶劑倒入原膠，用玻璃棒充分攪拌使之均勻混合，通常剛配制好的光刻膠中必然還存在少量因態(tài)物質(zhì)微粒未能*溶解，為把這部分未能溶解的固態(tài)物質(zhì)微粒濾除，我們一般采用自然沉淀法進行過濾。

B． 涂膠

為保證 ITO 層與光刻膠之間有良好的接觸和粘附，清洗后的玻璃應立即送光刻工序進行涂膠。如果玻璃擱置較久或者光刻返工，必須重洗在涂膠。

涂膠要求，粘附良好，均勻厚薄適當。若膠膜太薄，針孔較多，則抗蝕能力差，膠膜太厚，則分辨率低。

涂膠方法采用旋轉及車混涂法。為保證膠膜質(zhì)量，涂膠應在潔凈無塵操作箱

內(nèi)進行。涂膠機內(nèi)溫度應保持在 20℃~25℃范圍內(nèi)，相對溫度低于 60%，涂膠要在黃燈照射條件下進行，以防止光刻膠露光失效。

C. 前烘

前烘的方法是在恒溫干燥箱中烘烤，具體條件視膠的種類和性質(zhì)而定影響前烘質(zhì)量的主要因素是溫度和時間，烘烤不足（溫度過低或時間太短）

在膠膜與 ITO 交界面處，膠中的溶劑未充分揮發(fā)，曝光后形成浮膠或使圖形變形。烘烤過頭（溫度太高或時間太長），會導致膠膜翹曲硬化，形成不易溶于顯影液中的薄膜而留下來，顯影不干凈或膠面發(fā)皺，發(fā)黑，失去抗蝕能力。

D．PR 涂膠機機臺參數(shù)之設定

滾輪傳速與涂布輪傳速為 218±5 轉 1 分，干燥機傳速為 4.0±2m/min

光刻膠米方度為 30±2mpa.s,光刻膠壓入量為 0.5±0.1mm.（光刻膠只能四收 5 次使用）光阻劑：稀釋劑=10:1（依粘度測試情況而定）.注：涂布不良(涂布氣泡、涂布不均勻)之改善對策，調(diào)態(tài)涂膠滴管內(nèi)光刻膠滴入量。

3． 曝光

目前曝光方法采用接觸式曝光，因此方法所用設備簡單，操作方便，它包括“定位"和“曝光兩個步聚。定位對光刻精度影響很大，是光刻中十分重要的一環(huán)，要認真對準。

一般操作程序是：光預熱紫外光（UV）燈，待光源穩(wěn)定后，把菲林安裝在支架上；將涂有光刻膠的 ITO 玻璃放在平臺上，膠面朝上，將光刻菲林支架放下，仔細調(diào)態(tài)平臺微動裝置，使菲林上定位標志與平臺上玻璃的定位準確套合。定位完成即可曝光，曝光后經(jīng)過顯影并檢查定位是否正確。

曝光時間由光源到 ITO 玻璃的距離，光源強弱，光刻膠的感光性能及菲林、玻璃厚薄等因素決定

如曝光時間過短，光刻膠感光不足，則其光化學反應不充分 ，光刻膠的抗蝕性能就會降低，顯影時部分溶解，此時在投影機下可觀察到膠膜發(fā)黑；

若曝光時間太長，會使光刻膠本不該感光部分的邊緣被微弱感光，即產(chǎn)生“暈光"現(xiàn)象，蝕刻后邊原模糊或發(fā)現(xiàn)皺紋，使分辨率降低。

為了保證曝光質(zhì)量，在操作中要注意以下幾點；

（1） 定位必須嚴格套準

（2） 菲林必須平整地貼在玻璃上，不能有空隙。若存在空隙，則不該曝光的地

方會受到光的照射，使圖形產(chǎn)生畸變；（3） 曝光操作中，應注意動作要輕，保護好菲林不致劃傷；（4） 曝光時間必須準確控制。

曝光治具有菲林、干版、絡版曝光工藝參數(shù)之設定：

(1) 光量為 100-140mj/c ㎡,曝光時間為 6.8-8.5s,曝光柄位之標準公差±

0.2mm,曝光機內(nèi)紫外光被為 380-780 納米。

4． 顯影

顯影的目的是將未感光部分的光刻膠溶除，留下感光部分膠膜，從而顯現(xiàn)

出所需要的圖行。

顯影必須*，以使圖形邊緣整齊。顯影需嚴格控制好顯影時間。若顯影時間不足，則在未感光處留下一層不易察覺的光刻膠層，在蝕刻 ITO 層之間，它起了祖蝕作用，而隨意蝕刻液對這一博層膠膜的穿透和破壞，使這一博層的 ITO 層蝕刻不*，形成斑紋或小島。此外，顯影不足還會使膠膜邊緣出現(xiàn)厚度不均的過夜區(qū)，造成邊緣毛刺，圖形模糊，影響光刻質(zhì)量。若顯影時間過長，由于顯影時光刻膠發(fā)生軟化、膨脹，顯影液從 ITO 層表面向圖形邊緣滲入，發(fā)生粘溶，使圖形邊緣變形。有的甚至會出現(xiàn)浮膠現(xiàn)象，ITO 表面的膠膜皺起呈橘皮狀，嚴重的甚至大片剝落形成脫膠。

為了保證顯影質(zhì)量，必須嚴格控制顯影顯影時間并及時更換顯影液。顯影后玻璃一般應檢查一下幾個方面：

（1） 圖形定位是否準確；（2）圖形邊緣是否整齊；

（3）有無皺膠和膠發(fā)黑；（4）有無浮膠；

（5）有無膠面及 ITO 層的劃傷；(6)顯影漂洗是否干凈等；

顯影機工藝參數(shù)之設定：

KOH 溶度為 0.1-0.18N，溫度為 30±2℃，壓力為≦0.2kg/c ㎡,傳速為 4.5± 1.5m/min，噴洗壓力為 0.1-0.5 kg/c ㎡。

5. 堅膜

由于顯影時膠膜發(fā)生軟化、膨脹，影響膠膜抗蝕能力，，因此在顯影后必須以適當溫度烘干玻璃，以去除顯影夜和水份，使膠膜堅固。堅膜可以使膠膜與 ITO 層之間貼得更牢，同時也增強了膠膜本身的抗蝕 能力。

堅膜的溫度和時間要適當選擇，若堅膜不足，則因膠膜沒有烘透，不夠堅固，在蝕刻時發(fā)生浮膠或嚴重測蝕等。若堅膜過度，則使膠膜因熱膨脹會產(chǎn)生翹曲和剝落，當蝕刻時會發(fā)生鉆蝕或浮膠。

堅膜最好采用緩慢升溫和自然冷卻法，這樣可使膠膜更堅固，防止因膠的細小裂紋而出現(xiàn)毛刺現(xiàn)象。 

6. 蝕刻

蝕刻所選用的酸夜必須能腐蝕掉裸露的 ITO 層，又不損傷玻璃表面的光刻膠層。另外，還要求酸夜毒性小，使用方便。（酸夜為 HCL+HNO3 的混合物）。

蝕刻溫度對蝕刻效果影響很大，溫度太低，則蝕刻時間要長，易產(chǎn)生浮膠；溫度太高，則蝕刻酸夜太活潑，也較易產(chǎn)生脫膠或鉆蝕現(xiàn)象。

光刻質(zhì)量要求和分析

（1）光刻質(zhì)量要求

因光刻質(zhì)量的好壞直接影響到產(chǎn)品性能，成品率和可靠性，所以把好光刻工藝的質(zhì)量關是十分重要的。

蝕刻的圖形完整，尺寸準確，邊緣整齊，線條陡直；圖形內(nèi)無小島、針孔、毛刺等，蝕刻干凈；蝕刻后的玻璃表面清潔，不發(fā)光，沒有殘留的被蝕刻夜；圖形定位準確；

（2） 光刻質(zhì)量分析

要達到好上所示的質(zhì)量，必須對光刻過程中存在的各種缺陷和弊病進行分析和研究，找出原因，才有可能克服這些缺陷和弊病。

A.顯影時產(chǎn)生浮膠的原因一般有：

涂膠前玻璃表面不潔凈，表面有油污，水汽等，或玻璃清洗后在空氣中放置時間過長，空氣中的水汽附在玻璃表面上；或者涂膠膜操作環(huán)境濕度太大，使膠與玻璃表面粘附不良。因此，必須注意做好玻璃表面潔凈處理和操作環(huán)境的

溫濕度及清潔工作。

光刻膠配制有誤膠陳舊不純，膠的光化學反映性能不好，使膠與 ITO 層結合能力差；或者膠膜不均勻和過厚，引起粘附不良。

前烘時間不足或過液。烘烤時間不足，膠膜內(nèi)溶劑不能及時揮發(fā)，顯影時部分膠膜被溶除；烘烤時間過長，膠膜翹曲硬化，膠的感光特性會發(fā)生變化。所以前烘必須恰當。

曝光不足，光硬化反映不*，膠膜溶于顯影液中，引起浮膠。因此，在保證分辨率的前提下，曝光要充分。

顯影時間太長，顯影液從膠膜底部不斷滲入，引起浮膠。因此必須控制好顯影時間。

B.蝕刻 ITO 層時產(chǎn)生的浮膠原因有：

蝕刻是產(chǎn)生的浮膠，除了與顯影時產(chǎn)生的浮膠有相同原因外，還有以下幾個原因；

堅膜不足，膠膜烘烤熱固化不夠。所以堅膜要充分，但也不能太高。

蝕刻液溫度太低或太高。溫度太低，蝕刻緩慢，則蝕刻時間太長，蝕刻液穿透或從底部滲入膠膜，引起浮膠；溫度太高，蝕刻液活潑性強，也可能產(chǎn)生浮膠。因此蝕刻溫度要選擇適當。

蝕刻液配制失誤，蝕刻液的活潑性太強。

a.產(chǎn)生毛刺和鉆蝕的原因有：

涂膠前玻璃表面潔凈度不夠，存在污物，油污、小顆粒吸附水汽，使光刻膠

與 ITO 層粘附不良，引起毛刺或局部鉆蝕。光刻底板不好，圖形邊緣有毛刺狀缺陷。

光刻膠過濾不好或太陳舊，存在顆粒狀物質(zhì)，造成粘附不良。

顯影時間過長，圖形邊緣發(fā)生鉆溶，蝕刻時就要造成鉆蝕。

曝光不足，光硬化反映不*，顯影后在膠膜上產(chǎn)生溶坑或圖形邊緣引起鉆溶，蝕刻時造成毛刺或鉆蝕.

b.產(chǎn)生針孔的原因有：

     光刻掩模版質(zhì)量不好，本身有針孔；涂光刻膠時，操作環(huán)境被灰塵沾污；

光刻膠涂得太薄，或光刻膠本身抗蝕性能太差；曝光時間控制不好；蝕刻液配比不當；

玻璃表面本身缺陷也可能造成針孔。

c.產(chǎn)生“小島"的原因及其處理方法

由于菲林不好，圖案區(qū)有針孔或損傷，曝光是光透過這些針孔，使這些地方的膠膜局部感光，成為不溶于顯影液的膠膜“小島"，蝕刻后成為 ITO 層的“小島"，出現(xiàn)這種情況應及時發(fā)現(xiàn)并更換或處理菲林。

若顯影不*，則在光刻窗口內(nèi)留下一層不易察覺的膠膜，這層膠膜在蝕刻 ITO 層的過程中起阻蝕作用，從而造成 ITO 層蝕刻不*，殘留下 ITO 層“小島"。出現(xiàn)這種情況在膠膜抗蝕能力允許的條件下，應適當延長蝕刻時間。

蝕刻液不純，特別是沾有灰塵等異物，往往對 ITO 層有腐蝕作用，形成 ITO 層“小島"。因此，保持玻璃表面清潔，無灰塵污染，保持蝕刻液清潔并定期更換蝕刻液，可以減少由此產(chǎn)生的“小島"。

蝕刻時間與蝕刻速度有關，而蝕刻速度又與酸液和溫度有關，若蝕刻時間太短，ITO 層未蝕刻干凈，會導致短路而蝕刻時間也不宜太長，因為膠膜抗蝕能力有限，時間長了蝕刻酸液會穿透蝕膠膜產(chǎn)生浮膠或使分辨率降低，圖形變壞等。

蝕刻后玻璃應檢查項目有：蝕刻不足、蝕刻過度、無卜、短路等。蝕刻工藝參數(shù)之設定：

酸液溶度為（一般玻璃）6.0-6.5N,（特殊玻璃）為 6.4-6.8N,溫度為 45±2 ℃蝕刻速度：TN 為 3.6±0.1min,STN 為 3.2±0.1 min，噴洗壓力為 0.1-0.3kg/c ㎡.

蝕刻應注意之項，在加酸時停止放玻璃，待酸打滿后在打開循環(huán)加熱器開關，等溫度恒定在蝕刻玻璃。

7.剝膜

所謂剝膜，就是將經(jīng)過蝕刻的玻璃表面殘留的光刻膠去除干凈。剝膜液溶度（KOH）需控制在 0.8-1.6N 范圍內(nèi)。

8.DI 水清洗

用純水清洗玻璃表面，*去除 KOH 殘夜和表面沾污

將 ITO 圖案出來好的玻璃暫存凈化區(qū)，為下一工序做準備