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半導(dǎo)體芯片用冷熱沖擊試驗(yàn)箱測(cè)試后,為何在高低溫環(huán)境下仍出現(xiàn)焊點(diǎn)開裂?

閱讀:66      發(fā)布時(shí)間:2025-06-25
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半導(dǎo)體芯片經(jīng)冷熱沖擊試驗(yàn)箱測(cè)試后,在實(shí)際高低溫環(huán)境中仍出現(xiàn)焊點(diǎn)開裂,嚴(yán)重影響芯片可靠性。這一問(wèn)題需從材料特性、工藝缺陷及測(cè)試局限性等多維度剖析原因,并制定針對(duì)性解決方案。

兩槽式冷熱沖擊試驗(yàn)箱Ab 800×800.jpg


從材料層面來(lái)看,焊點(diǎn)開裂可能源于焊料與芯片、基板材料熱膨脹系數(shù)(CTE)不匹配。例如,傳統(tǒng)錫鉛焊料與硅芯片 CTE 差異達(dá) 10 - 15 ppm/℃,在 - 40℃至 125℃的溫度循環(huán)中,熱應(yīng)力反復(fù)作用易導(dǎo)致焊點(diǎn)疲勞開裂。此外,焊料自身的脆性、雜質(zhì)含量過(guò)高也會(huì)降低焊點(diǎn)韌性。
在工藝環(huán)節(jié),焊接溫度曲線控制不當(dāng)、焊接時(shí)間不足或過(guò)長(zhǎng),會(huì)使焊點(diǎn)內(nèi)部產(chǎn)生氣孔、虛焊等缺陷,形成應(yīng)力集中點(diǎn)。回流焊過(guò)程中,若升溫速率過(guò)快,焊料無(wú)法充分浸潤(rùn),冷卻時(shí)易出現(xiàn)內(nèi)部微裂紋;而波峰焊時(shí),助焊劑涂布不均會(huì)導(dǎo)致焊接強(qiáng)度下降,這些潛在缺陷在冷熱沖擊下被放大,最終引發(fā)開裂。
測(cè)試環(huán)節(jié)同樣存在局限性。冷熱沖擊試驗(yàn)箱雖能模擬高低溫環(huán)境,但測(cè)試時(shí)間、循環(huán)次數(shù)與實(shí)際使用場(chǎng)景存在差異。例如,試驗(yàn)箱中數(shù)十次循環(huán)可能僅相當(dāng)于實(shí)際工況下數(shù)月的應(yīng)力積累,難以暴露焊點(diǎn)潛在問(wèn)題。此外,試驗(yàn)箱內(nèi)溫度均勻性不足、升降溫速率與實(shí)際環(huán)境不匹配,也會(huì)導(dǎo)致測(cè)試結(jié)果失真。

針對(duì)上述問(wèn)題,可從以下方面實(shí)施解決方案。材料選擇上,優(yōu)先采用 CTE 與芯片、基板匹配的焊料,如含銀、鉍的無(wú)鉛焊料,其 CTE 可控制在 8 - 12 ppm/℃;同時(shí),嚴(yán)格把控焊料純度,雜質(zhì)含量需低于 0.1%。工藝優(yōu)化方面,通過(guò)仿真模擬確定焊接溫度曲線,如回流焊時(shí)將峰值溫度控制在焊料熔點(diǎn)以上 30 - 50℃,升溫速率設(shè)定為 1 - 3℃/s;引入 X 射線檢測(cè)、超聲掃描等非破壞性檢測(cè)手段,在焊接后及時(shí)排查內(nèi)部缺陷。




測(cè)試方案也需改進(jìn)。延長(zhǎng)冷熱沖擊測(cè)試的循環(huán)次數(shù),將常規(guī) 50 次循環(huán)提升至 200 次以上;細(xì)化溫度梯度,增加如 - 55℃至 150℃的溫度測(cè)試;同時(shí),結(jié)合濕度、振動(dòng)等多因素綜合測(cè)試,更真實(shí)模擬芯片服役環(huán)境。此外,定期校準(zhǔn)試驗(yàn)箱溫度傳感器,確保溫度均勻性誤差控制在 ±1℃以內(nèi),提升測(cè)試結(jié)果的可靠性。
通過(guò)上述材料、工藝與測(cè)試環(huán)節(jié)的系統(tǒng)優(yōu)化,可有效降低焊點(diǎn)開裂風(fēng)險(xiǎn)。某消費(fèi)電子企業(yè)采用該方案后,芯片在實(shí)際高低溫環(huán)境中的焊點(diǎn)開裂率從 8% 降至 1.5%,顯著提升了產(chǎn)品的可靠性與市場(chǎng)競(jìng)爭(zhēng)力。



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