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大理石平臺(tái)技術(shù)要求：

  1、大理石平臺(tái)工作面上不得有嚴(yán)重影響外觀和使用性能的砂孔、氣孔、裂紋、夾渣、縮松、劃痕、碰傷、銹跡等缺陷。

  2、大理石平臺(tái)非工作面上的凹陷或掉角允許修補(bǔ)。

  3、大理石平臺(tái)應(yīng)采用細(xì)晶粒、結(jié)構(gòu)致密的輝長(zhǎng)巖、輝綠巖、花崗巖(黑云母應(yīng)小于5%、彈性模量應(yīng)大于0.6x10-4kg/平方厘米、吸水率應(yīng)小于0.25%)等材料制造，其工作面硬度應(yīng)大于70hs。

  4、大理石平臺(tái)工作面的表面粗糙度R的zui大允許值為0.32—0.63μm，側(cè)面為10μm。

  5、大理石平臺(tái)工作面的平面度公差在溫度20℃下給定：000級(jí)=1×(1+d/1000)um、00級(jí)=2×(1+d/1000)um、0級(jí)=4×(1+d/1000)um、1級(jí)=8×(1+d/1000)um、(d為對(duì)角線長(zhǎng)度，mm)，距工作面邊緣zui大30mm內(nèi)平面度公差不計(jì)，且任意一點(diǎn)不得高于工作面。

  6、對(duì)采用對(duì)角線或網(wǎng)格法檢驗(yàn)大理石平臺(tái)工作面平面度時(shí)，應(yīng)檢驗(yàn)其平面波動(dòng)量，工作面的平面波動(dòng)量為000級(jí)=2μm，00級(jí)=4μm，0級(jí)=8μm，1級(jí)=16μm。

  7、大理石平臺(tái)側(cè)面對(duì)工作面的垂直度公差和平臺(tái)倆相鄰側(cè)面的垂直度公差均按GB/T1184中規(guī)定的12級(jí)。

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