淺析超純水在光學(xué)領(lǐng)域的應(yīng)用

來源：北京普析通用儀器有限責(zé)任公司 2019年11月12日 10:53

超純水的水質(zhì)純度已經(jīng)成為影響光學(xué)器件產(chǎn)品質(zhì)量、生產(chǎn)成品率及生產(chǎn)成本的重要因素之一，因此光學(xué)領(lǐng)域?qū)λ|(zhì)的要求也越來越高。同時，超純水設(shè)備的性能好壞，直接影響到超純水的質(zhì)量。

· 在生產(chǎn)中，超純水主要用作純水清洗和純水配液，不同的工藝生產(chǎn)中純水的用途及對水質(zhì)的要求也不同。清洗需用純水，如水中含有氯離子，電容器就會漏電。在電子管生產(chǎn)中，電子管陰極涂甫碳酸鹽，如其中混入雜質(zhì)，就會影響電子的發(fā)射，進(jìn)而影響電子管的放大性能及壽命。

· 因此其配液要使用純水，在顯象管和陰極射線管生產(chǎn)中，其熒光屏內(nèi)壁用噴涂法或沉淀法附著一層熒光物質(zhì)，是鋅或其他金屬的硫化物組成的熒光粉顆粒并用硅酸鉀粘合而成，其配制需用純水，如純水中含銅在8ppb以上，就會引起發(fā)光變色；含鐵在50ppb以上就會使發(fā)光變色、變暗、閃光跳躍；含奇有機(jī)物膠體、微粒、細(xì)菌等，就會降低熒光層強(qiáng)度及其與玻殼的粘附力，并會造成氣泡、條跡、漏光點等廢次品。

· 在晶體管、集成電路生產(chǎn)中，純水主要用于清洗硅片，另有少量用于藥液配制，硅片氧化的水汽源，部分設(shè)備的冷卻水，配制電鍍液等。集成電路的產(chǎn)品質(zhì)量及生產(chǎn)成品率關(guān)系很大。水中的堿金屬（K、Na等）會使絕緣膜耐壓不良，重金屬（Au、Ag、Cu等）會使PN結(jié)耐壓降低，Ⅲ族元素（B、Al、Ga等）會使N型半導(dǎo)體特性惡化，V族元素（P、As、Sb等）會使P型半導(dǎo)體特性惡化，水中細(xì)菌高溫碳化后的磷（約占灰分的20-50%）會使P型硅片上的局部區(qū)域變化為N型硅而導(dǎo)致器件性能變壞水中的顆粒（包括細(xì)菌）如吸咐在硅片表面，就會引起電路短路或特性變差。

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