HT3 整合了靜態(tài)、動態(tài)兩種進樣技術，進樣管路可加熱至300℃，適用于各種揮發(fā)性和半揮發(fā)性的樣品進行處理，可以用于擴展氣相色譜(GC) 和氣相色譜/質譜聯(lián)機(GC/MS) 的分析樣品類型及擴大檢測范圍。
■ 結合動態(tài)頂空部件靈敏度提高50-100倍
■ 流量和壓力通過質量流量控制器進行控制，提高精度和準確性
■ 樣品流路溫度可加熱至300°C
■ 同一進樣序列內可選用不同方法
■ 靜態(tài)頂空和動態(tài)頂空可任意切換
■ Siltek涂層進樣環(huán)，多種規(guī)格可選
■ 可與市場上所有GC連接，通過軟件設置數(shù)據(jù)傳輸
■ 流量和壓力通過質量流量控制器進行控制，提高精度和準確性
■ 樣品流路溫度可加熱至300°C
■ 同一進樣序列內可選用不同方法
■ 靜態(tài)頂空和動態(tài)頂空可任意切換
■ Siltek涂層進樣環(huán)，多種規(guī)格可選
■ 可與市場上所有GC連接，通過軟件設置數(shù)據(jù)傳輸
