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芬蘭PICOSUN公司是ALD技術(shù)發(fā)明人Tuomo Suntola創(chuàng)立的，與Picosun專家隊伍被稱為ALD的。
Suntola于1974年發(fā)明ALD技術(shù)，因此獲得半導體行業(yè)European SEMI 2004獎。
PICOSUN公司憑借其杰出的生產(chǎn)型與科研型產(chǎn)品，于2022年6月加入美國應用材料公司。
PICOSUN產(chǎn)品分為科研型與生產(chǎn)型。
科研型產(chǎn)品有：
標準型PICOSUN™ R-200 Standard，只有熱法原子層沉積系統(tǒng)
高級型PICOSUN™ R-200 Advanced，有熱法原子層沉積系統(tǒng)與等離子體增強原子層沉積系統(tǒng)
高級型ALD可以添加前沿的微波等離子體輔助增強模塊Microwave Plasma, 這種微波等離子體增強原子層沉積系統(tǒng)在顆粒、薄膜致密性表現(xiàn)更好，同時有可能沉積具有挑戰(zhàn)性的一些氮化物薄膜，如氮化硅等。
| 產(chǎn)品名稱 | 參考價 | 地區(qū) | 公司名稱 | 更新時間 | |
|---|---|---|---|---|---|
| R-200 Advance 原子層沉積系統(tǒng) | 面議 | 上海 | 上海德竹芯源科技有限公司 | 2024-08-11 | 在線詢價 |
| R-200 Standard 原子層沉積系統(tǒng) | 面議 | 上海 | 上海德竹芯源科技有限公司 | 2024-08-11 | 在線詢價 |
| P-300B 原子層沉積系統(tǒng) | 面議 | 上海 | 上海德竹芯源科技有限公司 | 2024-08-11 | 在線詢價 |
| 等離子體增強原子層沉積系統(tǒng) | 面議 | 上海 | 上海德竹芯源科技有限公司 | 2024-08-10 | 在線詢價 |
| 芬蘭Picosun原子層沉積系統(tǒng) | 面議 | 廣州市 | 廣州納儀科技有限公司 | 2024-05-12 | 在線詢價 |
| 等離子體增強原子層沉積系統(tǒng) | 面議 | 上海 | 上海德竹芯源科技有限公司 | 2024-01-19 | 在線詢價 |
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