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氧氮?dú)浞治鰞x

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氧氮?dú)浞治鰞x是一種用于材料科學(xué)領(lǐng)域的儀器,于2016年03月09日啟用。氧氮?dú)浞治鰞x技術(shù)指標(biāo)測量范圍:ON低氧0.0-300ppmOH低氧0.0-300ppm高氧0.0-2%高氧0.0-2%低氮0.0―300ppm低氫0.0-50ppm高氮0.0-2%高氫0.0-1000ppm靈敏度:氧0.01ppm;氮0.1ppm;氫0.01ppm。[1]氧氮?dú)浞治鰞x主要功能該儀器配置有16位微處理器和兩個(gè)獨(dú)立的分別檢測高氧和低氧的紅外檢測池。氮和氫通過雙重范圍的熱導(dǎo)檢測池測量。分析過程中可自動(dòng)實(shí)現(xiàn)從低范圍到高范圍的切換。樣品在高功率脈沖爐的石墨坩堝中加熱可達(dá)3000℃以上高溫,脈沖爐采用循環(huán)水冷卻。該儀器詳情>>

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