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TESCAN MIRA 場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡

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  • 型號(hào)
  • 品牌
  • 所在地深圳市
  • 更新時(shí)間2025-04-20
  • 廠商性質(zhì)其他
  • 所在地區(qū)深圳市
  • 實(shí)名認(rèn)證已認(rèn)證
  • 產(chǎn)品數(shù)量40
  • 人氣值448
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 深圳市新則興科技有限公司成立于2004年,自成立以來(lái)新則興一直致力于成為客戶信賴的實(shí)驗(yàn)室整體解決方案提供商,代理國(guó)際品牌實(shí)驗(yàn)室儀器設(shè)備 :法國(guó)PRESI 金相制樣設(shè)備、德國(guó)LEICA 顯微鏡、 蘇州慧利激光干涉儀、日本HITACHI 超聲波掃描顯微鏡、捷克TESCAN 掃描電鏡等系列產(chǎn)品。在材料檢測(cè)領(lǐng)域,以質(zhì)的設(shè)備以及質(zhì)的服務(wù),為客戶提供的支持,助推客戶質(zhì)量提升  公司由專業(yè)團(tuán)隊(duì)主創(chuàng),成立十五年來(lái)一直聚焦于材料分析的細(xì)分領(lǐng)域,耐得住,匯聚行業(yè)精英,不斷拓寬,加深產(chǎn)品及服務(wù)。  公司秉承“誠(chéng)則信,信則興”的企業(yè)理念,以誠(chéng)信為本,以客戶為尊,以產(chǎn)品及服務(wù)為橋,建立共贏的合作關(guān)系,共同成長(zhǎng)?! ?019年中,在深圳市機(jī)械行業(yè)協(xié)會(huì)牽頭帶領(lǐng)下,新則興科技有限公司與深圳市計(jì)量質(zhì)量檢測(cè)研究院、??怂箍倒餐瑒?chuàng)建創(chuàng)新聯(lián)合實(shí)驗(yàn)室,致力于通過(guò)搭建專家咨詢平臺(tái)結(jié)合現(xiàn)場(chǎng)試驗(yàn),并聚焦于設(shè)計(jì)研發(fā)、制造生產(chǎn)、檢測(cè)控制等產(chǎn)品全生命周期各個(gè)環(huán)節(jié)的幾何質(zhì)量以及原材料問(wèn)題,為廣大企業(yè)提供包括測(cè)試、輔助設(shè)計(jì)、分析驗(yàn)證、咨詢、培訓(xùn)等在內(nèi)的綜合技術(shù)解決方案。共同打造測(cè)試檢測(cè)行業(yè)泛生態(tài)圈,做到滿足產(chǎn)品全生命周期的一站式服務(wù)平臺(tái)。
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TESCAN MIRA 是 TESCAN 推出的第四代高性能掃描電子顯微鏡,配置有高亮度肖特基場(chǎng)發(fā)射電子槍,在TESCAN 的 Essence 操作軟件的同一個(gè)窗口中實(shí)現(xiàn)了 SEM 成像和實(shí)時(shí)元素分析。這種結(jié)合大大簡(jiǎn)化了從樣品中獲取形貌和元素?cái)?shù)據(jù)的過(guò)程,從而使得MIRA 成為質(zhì)量控制、失效分析和實(shí)驗(yàn)室常規(guī)材料檢測(cè)的有效分析解決方案。TESCAN MIRA 具有創(chuàng)新的光學(xué)設(shè)計(jì),確保在需要時(shí)可以隨時(shí)無(wú)......
TESCAN MIRA 場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡 產(chǎn)品詳情

主要特點(diǎn)

  • 集成的 TESCAN Essence™ EDS 分析平臺(tái),可在 Essence™ 軟件的同一個(gè)窗口中實(shí)現(xiàn) SEM 成像和實(shí)時(shí)元素分析;
  • TESCAN 的無(wú)光闌光路設(shè)計(jì)及實(shí)時(shí)電子束追蹤技術(shù)(In-flight Beam Tracing™),可快速獲得的成像和分析條件;
  • 的大視野光路(Wide Field Optics™)設(shè)計(jì),可實(shí)現(xiàn)最小放大倍率低至2倍,因而無(wú)需額外的光學(xué)導(dǎo)航相機(jī),即可輕松、精確的對(duì)樣品進(jìn)行導(dǎo)航;
  • 標(biāo)配的 SingleVac™ 模式,不導(dǎo)電樣品或電子束敏感樣品無(wú)需噴鍍即可在此模式下直接進(jìn)行觀察;直觀的模塊化 Essence™ 軟件,無(wú)論用戶的經(jīng)驗(yàn)水平如何,均可輕松操作;
  • Essence™ 3D 防碰撞模型,可確保樣品臺(tái)和樣品移動(dòng)時(shí),安裝在樣品室內(nèi)探測(cè)器的安全性;
  • 可選配的鏡筒內(nèi) SE 和 BSE 探測(cè)器,以及電子束減速技術(shù),更好的提升了低電壓下的成像性能;
  • 標(biāo)準(zhǔn)分析平臺(tái),可選配集成最多種類的探測(cè)器和附件(如陰極熒光探測(cè)器,水冷背散射電子探測(cè)器或拉曼光譜儀等)。

 

中間鏡設(shè)計(jì)
MIRA 的鏡筒中增加了一個(gè)特殊的透鏡,使得電子束斑尺寸更小,進(jìn)而提升大束流下的分辨率。這個(gè)的透鏡--中間鏡 (Intermediate  Lens™) 結(jié)合電子束追蹤技術(shù)(In-?ight Beam Tracing™),可確保操作者設(shè)定的束流值與真實(shí)作用在樣品上的束流相一致。這對(duì)于需要大束流下進(jìn)行的分析應(yīng)用如EDS/EBSD/WDS等,以及必須在相同條件下進(jìn)行重復(fù)實(shí)驗(yàn)或表征的需求尤其重要。

 

更多的探測(cè)器和附件

TESCAN MIRA  可以安裝各類附件以滿足特定的應(yīng)用需求,同時(shí)還可以選配鏡筒內(nèi) SE 和BSE 探測(cè)器以及電子束減速技術(shù),進(jìn)一步拓展了 MIRA 的分析能力,滿足當(dāng)前和未來(lái)在亞微米尺度的表征需求。選配鏡筒內(nèi) SE 和 BSE 探測(cè)器后,即可同時(shí)獲得包括樣品室內(nèi)SE、樣品室內(nèi)BSE、鏡筒內(nèi)SE及鏡筒內(nèi)BSE的4種不同襯度信號(hào)。電子束減速技術(shù)則可提升其成像能力,尤其是在低電壓下的分辨率。

 

全新的 EssenceTM 電鏡控制軟件

采用 TESCAN Essence™ 多用戶電鏡操作軟件,具有快速搜索、操作步驟撤銷/重做和預(yù)設(shè)參數(shù)等功能,實(shí)現(xiàn)更高效的樣品分析和表征。用戶可以根據(jù)實(shí)際操作水平或特殊應(yīng)用需求的不同在軟件中自定義界面布局。另外,Essence™ 防碰撞模型軟件虛擬出樣品室內(nèi)部,直觀的顯示樣品室內(nèi)的所有硬件的幾何關(guān)系,樣品臺(tái)的大小和位置,以及樣品和安裝的其它附件。

 

創(chuàng)新的 SingleVac TM 模式

SingleVac™ 模式是 TESCAN MIRA 的標(biāo)配功能,TESCAN 已為此模式預(yù)設(shè)了真空值,荷電樣品無(wú)需噴鍍也可以使用背散射電子探測(cè)器直接觀察。同時(shí)還可以選配 UniVac™ 模式,該模式下可連續(xù)調(diào)節(jié)真空度至 700 Pa,用于放電、放氣及電子束敏感樣品的二次電子和背散射電子成像。


軟件:

  • 測(cè)量軟件, 公差測(cè)量軟件
  • 圖像處理
  • 預(yù)設(shè)參數(shù)
  • 直方圖及LUT
  • SharkSEM™ 基礎(chǔ)版 (遠(yuǎn)程控制)
  • 3D 防碰撞模型軟件
  • 對(duì)象區(qū)域
  • 光電聯(lián)用
  • 定時(shí)關(guān)機(jī)
  • CORAL™(用于生命科學(xué)的電鏡模塊)
  • 自動(dòng)拼圖軟件
  • 樣品觀察
  • TESCAN Flow™ (離線處理軟件)
  • 根據(jù)實(shí)際配置和需求

 

設(shè)備參數(shù):

電子槍

高亮度肖特基發(fā)射極

電子光學(xué)部件

中間透鏡大視野觀察(Wide Field OpticsTM Technology with Intermediate LensTM )和實(shí)時(shí)電子束追蹤(In-Flight Beam TracingTM

分辨率

高真空模式:

1.2 nm@30 keV

3.5 nm@1 keV

1.8 nm@1 keV(BDT)

低真空模式:

2 nm@30 keV(BSE探測(cè)器*)

1.5 nm@30 keV(LVSTD探測(cè)器*)

*選裝探測(cè)器

視野

位于工作距離時(shí)>50 mm

艙室

LM、GM

標(biāo)配

EssenceTM軟件、基礎(chǔ)款標(biāo)配低真空模式

選配

UniVac模式,氣壓范圍(1-700Pa);EssenceTM EDS;Vacuum Buffer;其他可選的探測(cè)器。

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